[实用新型]气体注入管及膜层沉积装置有效
| 申请号: | 202122058927.9 | 申请日: | 2021-08-27 | 
| 公开(公告)号: | CN215628285U | 公开(公告)日: | 2022-01-25 | 
| 发明(设计)人: | 明飞;李拓;蒲浩;郭海峰;肖占海 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 | 
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/30 | 
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 刘鑫 | 
| 地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 | 
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| 摘要: | 本实用新型提供了一种气体注入管及膜层沉积装置。气体注入管包括:管本体,管本体的侧壁上设置有条形出气孔,条形出气孔沿管本体的轴向方向延伸;其中,条形出气孔垂直于其延伸方向的宽度为预设宽度;预设宽度沿条形出气孔的延伸方向逐渐变化。本实用新型的气体注入管解决了现有技术中的位于膜层沉积装置内不同位置的晶圆表面沉积的膜层厚度的均匀性较差的问题。 | ||
| 搜索关键词: | 气体 注入 沉积 装置 | ||
【主权项】:
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                    C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
                
            C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





