[实用新型]气体注入管及膜层沉积装置有效

专利信息
申请号: 202122058927.9 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN215628285U 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 明飞;李拓;蒲浩;郭海峰;肖占海 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/30
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 刘鑫
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供了一种气体注入管及膜层沉积装置。气体注入管包括:管本体,管本体的侧壁上设置有条形出气孔,条形出气孔沿管本体的轴向方向延伸;其中,条形出气孔垂直于其延伸方向的宽度为预设宽度;预设宽度沿条形出气孔的延伸方向逐渐变化。本实用新型的气体注入管解决了现有技术中的位于膜层沉积装置内不同位置的晶圆表面沉积的膜层厚度的均匀性较差的问题。
搜索关键词: 气体 注入 沉积 装置
【主权项】:
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