[实用新型]气体注入管及膜层沉积装置

权利要求书

1.一种气体注入管，其特征在于，包括：

管本体(10)，所述管本体(10)的侧壁上设置有条形出气孔(11)，所述条形出气孔(11)沿所述管本体(10)的轴向方向延伸；

其中，所述条形出气孔(11)垂直于其延伸方向的宽度为预设宽度；所述预设宽度沿所述条形出气孔(11)的延伸方向逐渐变化。

2.根据权利要求1所述的气体注入管，其特征在于，所述条形出气孔(11)沿其延伸方向具有相对设置的第一端和第二端，由所述条形出气孔(11)的第一端至所述条形出气孔(11)的第二端的方向，所述预设宽度逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的气体注入管，其特征在于，所述条形出气孔(11)沿其延伸方向具有相对设置的第一端和第二端，由所述条形出气孔(11)的第一端至所述条形出气孔(11)的第二端的方向，所述预设宽度逐渐减小。

4.根据权利要求1所述的气体注入管，其特征在于，所述条形出气孔(11)沿其延伸方向具有相对设置的第一端和第二端；所述条形出气孔(11)包括至少两个出气孔段，至少两个所述出气孔段由所述条形出气孔(11)的第一端至所述条形出气孔(11)的第二端的方向上依次设置；

由所述条形出气孔(11)的第一端至所述条形出气孔(11)的第二端的方向上，所述出气孔段的所述预设宽度逐渐减小；或者

由所述条形出气孔(11)的第一端至所述条形出气孔(11)的第二端的方向上，所述出气孔段的所述预设宽度逐渐增大。

5.根据权利要求4所述的气体注入管，其特征在于，至少两个所述出气孔段包括第一孔段(111)和第二孔段(112)，所述第一孔段(111)的第一端朝向所述条形出气孔(11)的第一端延伸，所述第一孔段(111)的第二端与所述第二孔段(112)的第一端连接，所述第二孔段(112)的第二端朝向所述条形出气孔(11)的第二端延伸；

其中，所述第一孔段(111)的第二端的所述预设宽度与所述第二孔段(112)的第一端的所述预设宽度相等。

6.根据权利要求5所述的气体注入管，其特征在于，所述第一孔段(111)的第一端延伸至所述条形出气孔(11)的第一端，所述第二孔段(112)的第二端延伸至所述条形出气孔(11)的第二端。

7.根据权利要求5所述的气体注入管，其特征在于，所述第一孔段(111)的所述预设宽度由其第一端至其第二端的方向上逐渐增大，所述第二孔段(112)的所述预设宽度由其第二端至其第一端的方向上逐渐增大；或者

所述第一孔段(111)的所述预设宽度由其第一端至其第二端的方向上逐渐减小，所述第二孔段(112)的所述预设宽度由其第二端至其第一端的方向上逐渐减小。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的气体注入管，其特征在于，所述预设宽度的取值范围为0mm至0.3mm之间；其中，所述预设宽度的取值范围包括0.3mm。

9.一种膜层沉积装置，其特征在于，包括：

反应腔室(20)，用于设置承载多个堆叠设置的晶圆的晶舟；

权利要求1至8中任一项所述的气体注入管，设置有条形出气孔(11)的管本体(10)设置在所述反应腔室(20)内，所述条形出气孔(11)朝向所述晶圆设置。

10.根据权利要求9所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述气体注入管用于向所述反应腔室(20)通入Si₂Cl₆气体。