[实用新型]一种清洁机构及干法刻蚀设备

摘要

本实用新型公开了一种清洁机构及干法刻蚀设备，涉及半导体制作技术领域。该清洁机构包括水平驱动组件、竖直驱动组件及清洁组件。所述水平驱动组件包括两根沿第一水平方向设置的导轨，每根所述导轨均滑动设置有水平滑块；所述竖直驱动组件包括横梁，所述横梁的两端分别沿竖直方向滑动设置于两个所述水平滑块；所述清洁组件包括多个沿第二水平方向间隔设置于所述横梁的清洁头，所述清洁头包括本体及设置于所述本体的针头。该清洁机构能够在不打开设备的前提下对电极孔进行清理，提高了设备的稼动率，降低了成本。