[实用新型]一种清洁机构及干法刻蚀设备

说明书

本实用新型公开了一种清洁机构及干法刻蚀设备，涉及半导体制作技术领域。该清洁机构包括水平驱动组件、竖直驱动组件及清洁组件。所述水平驱动组件包括两根沿第一水平方向设置的导轨，每根所述导轨均滑动设置有水平滑块；所述竖直驱动组件包括横梁，所述横梁的两端分别沿竖直方向滑动设置于两个所述水平滑块；所述清洁组件包括多个沿第二水平方向间隔设置于所述横梁的清洁头，所述清洁头包括本体及设置于所述本体的针头。该清洁机构能够在不打开设备的前提下对电极孔进行清理，提高了设备的稼动率，降低了成本。

技术领域

本实用新型涉及半导体制作技术领域，尤其涉及一种清洁机构及干法刻蚀设备。

背景技术

干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术，当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点：一方面等离子体中的气体活性较强，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀剥离的目的；另一方面，还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其轰击被刻蚀物的表面，将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到刻蚀的目的。

然而无论是将气体电离成等离子体还是对等离子体进行加速，都需要在刻蚀设备上设置正对的上电极与下电极。而为了使气体进入上电极与下电极之间，上电极还需要设置多个电极孔。而随着工作时间的增加，电极孔会被灰尘等杂质堵塞，造成制程参数异常，使产品表面出现缺陷，影响产品良率。

根据上述情况，目前均是通过定时更换上电极来解决电极孔的堵塞问题。这也就导致需要停机并打开设备进行操作，既浪费人力，又影响设备的稼动率，极大地提高了成本。

针对上述问题，需要开发一种清洁机构及干法刻蚀设备，以解决打开设备更换电极导致的稼动率降低及成本上升的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种清洁机构及干法刻蚀设备，能够在不打开设备的前提下对电极孔进行清理，提高了设备的稼动率，降低了成本。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种清洁机构，包括：

水平驱动组件，所述水平驱动组件包括两根沿第一水平方向设置的导轨，每根所述导轨均滑动设置有水平滑块；

竖直驱动组件，所述竖直驱动组件包括横梁，所述横梁的两端分别沿竖直方向滑动设置于两个所述水平滑块；

清洁组件，所述清洁组件包括多个沿第二水平方向间隔设置于所述横梁的清洁头，所述清洁头包括本体及设置于所述本体的针头，所述本体连接于所述横梁，所述第二水平方向垂直于所述第一水平方向。

优选地，所述清洁组件还包括高压气泵，所述针头包括吹气部，所述吹气部设置有吹气孔，所述吹气孔与所述高压气泵连通。

优选地，所述清洁组件还包括抽真空件，所述针头包括吸气部，所述吸气部设置有吸气孔，所述吸气孔与所述抽真空件连通。

优选地，所述清洁头还包括罩体，所述罩体的一端与所述本体连接，所述罩体的另一端设置有开口，所述针头伸出所述开口。

优选地，所述针头沿竖直方向朝上设置，所述开口边缘所在高度不高于所述针头的顶端端面所在高度。

优选地，所述开口边缘设置有缓冲垫。

优选地，所述清洁头还包括弹性件，所述针头沿竖直方向滑动设置于所述本体，所述弹性件的两端分别抵接所述针头及所述本体。

优选地，所述本体能够在所述横梁上沿所述第二水平方向滑动。

优选地，所述清洁头还包括锁紧件，所述锁紧件连接于所述本体并能够抵靠所述横梁。

一种干法刻蚀设备，包括上电极及与所述上电极正对的下电极，所述上电极间隔设置有多个电极孔，还包括所述的清洁机构，两根所述导轨设置于所述上电极的两侧。