[实用新型]一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置有效
| 申请号: | 202121952862.6 | 申请日: | 2021-08-19 |
| 公开(公告)号: | CN215713355U | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
| 发明(设计)人: | 姜兴辉 | 申请(专利权)人: | 大连诺豪联恒电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/50;B08B6/00;B08B13/00 |
| 代理公司: | 沈阳天赢专利代理有限公司 21251 | 代理人: | 李荣新 |
| 地址: | 116000 辽宁省大连市中国(辽宁)自由贸*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置,所述主体内部设有所述操作平台,所述操作平台上设有所述支撑基板,所述支撑基板两端上设有所述底座,两个所述底座之间设有所述硬掩模装置,所述硬掩模装置上设有若干个所述基片腔体,所述主体两侧分别设有所述支架,所述支架顶部设有所述吹风机,两个所述支架之间设有所述静电吸附装置,所述静电吸附装置电性连接所述电动机,所述电动机固定连接在所述支架上,本实用新型通过静电吸附原理将腔体内部的化学颗粒吸附到静电吸附装置上,同时利用吹风机加快,静电吸附化学颗粒的效率,有利地使硬掩模上的颗粒产生最小化或基本上消除,这防止了与硬掩模接触的基板和处理腔室的污染。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 pecvd 方式 制备 碳硬掩模 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





