[实用新型]一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置

权利要求书

1.一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置，其特征在于，包括：主体(1)、操作平台(2)、支撑基板(3)、底座(4)、硬掩模装置(5)、基片腔体(6)、支架(7)、吹风机(8)、静电吸附装置(9)、电动机(10)、限位装置(11)、纤维层(12)、防腐蚀层(13)；

所述主体(1)内部设有所述操作平台(2)，所述操作平台(2)上设有所述支撑基板(3)，所述支撑基板(3)两端上设有所述底座(4)，两个所述底座(4)之间设有所述硬掩模装置(5)，所述硬掩模装置(5)上设有若干个所述基片腔体(6)，所述主体(1)两侧分别设有所述支架(7)，所述支架(7)顶部设有所述吹风机(8)，两个所述支架(7)之间设有所述静电吸附装置(9)，所述静电吸附装置(9)电性连接所述电动机(10)，所述电动机(10)固定连接在所述支架(7)上。

2.根据权利要求1所述的一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置，其特征在于，所述基片腔体(6)上设有所述限位装置(11)。

3.根据权利要求1所述的一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置，其特征在于，所述静电吸附装置(9)表面设有所述纤维层(12)。

4.根据权利要求1所述的一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置，其特征在于，所述支撑基板(3)上设有所述防腐蚀层(13)。