[实用新型]一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置

说明书

本实用新型公开了一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置，所述主体内部设有所述操作平台，所述操作平台上设有所述支撑基板，所述支撑基板两端上设有所述底座，两个所述底座之间设有所述硬掩模装置，所述硬掩模装置上设有若干个所述基片腔体，所述主体两侧分别设有所述支架，所述支架顶部设有所述吹风机，两个所述支架之间设有所述静电吸附装置，所述静电吸附装置电性连接所述电动机，所述电动机固定连接在所述支架上，本实用新型通过静电吸附原理将腔体内部的化学颗粒吸附到静电吸附装置上，同时利用吹风机加快，静电吸附化学颗粒的效率，有利地使硬掩模上的颗粒产生最小化或基本上消除，这防止了与硬掩模接触的基板和处理腔室的污染。

技术领域

本实用新型涉及工业技术领域，具体而言，是一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置。

背景技术

掩模(例如，硬掩模)通常用PECVD方式制备碳基选择性沉积材料，掩模将具有穿过掩模形成的预定开口图案，以允许材料仅在对应于开口的位置处沉积在掩模下方的基板上，然而，此类掩模的放置和移除通常在大气中进行。本发明人已经发现，在使用掩模处理基板之后，已沉积在掩模上的材料经常在离开处理腔室或群集工具的真空环境时形成颗粒，因此，常常需要人工清理掩模腔体内部，浪费人力，影响工作效率，同时人工清理还容易污染真空腔室。

实用新型内容

为了解决现有技术中的例如上述技术问题，本实用新型公开了一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置，包括：主体、操作平台、支撑基板、底座、硬掩模装置、基片腔体、支架、吹风机、静电吸附装置、电动机、限位装置、纤维层、防腐蚀层；

所述主体内部设有所述操作平台，所述操作平台上设有所述支撑基板，所述支撑基板两端上设有所述底座，两个所述底座之间设有所述硬掩模装置，所述硬掩模装置上设有若干个所述基片腔体，所述主体两侧分别设有所述支架，所述支架顶部设有所述吹风机，两个所述支架之间设有所述静电吸附装置，所述静电吸附装置电性连接所述电动机，所述电动机固定连接在所述支架上。

优选的，所述基片腔体上设有所述限位装置。

优选的，所述静电吸附装置表面设有所述纤维层。

优选的，所述支撑基板上设有所述防腐蚀层。

本实用新型通过静电吸附原理将腔体内部的化学颗粒吸附到静电吸附装置上，同时利用吹风机加快，静电吸附化学颗粒的效率，有利地使硬掩模上的颗粒产生最小化或基本上消除，这防止了与硬掩模接触的基板和处理腔室的污染。

附图说明

图1是本实用新型所述一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置主视结构示意图。

附图标识：

1、主体；2、操作平台；3、支撑基板；4、底座；5、硬掩模装置；6、基片腔体；7、支架；8、吹风机；9、静电吸附装置；10、电动机；11、限位装置；12、纤维层；13、防腐蚀层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例：

根据附图1所示，本实用新型的实施例提供一种PECVD方式制备碳硬掩模的腔体装置，包括：主体1、操作平台2、支撑基板3、底座4、硬掩模装置5、基片腔体6、支架7、吹风机8、静电吸附装置9、电动机10、限位装置11、纤维层12、防腐蚀层13；