[实用新型]一种约束空间下的线扫光学检测平台有效
| 申请号： | 202121950775.7 | 申请日： | 2021-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN216144705U | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 张深逢;常浩捷;靳登科;顾勇强 | 申请（专利权）人： | 逸美德科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G01N21/01 |
| 代理公司： | 苏州隆恒知识产权代理事务所(普通合伙) 32366 | 代理人： | 计静静 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种约束空间下的线扫光学检测平台，包括同轴线扫光源单元、平面反光单元、采图单元和第一驱动单元；所述同轴线扫光源单元和平面反光单元均与料件对应设置且分别位于料件的相对两侧；所述同轴线扫光源单元发射的光线作用于料件表面后能够产生散射平行光；所述平面反光单元能够将接收到的所述散射平行光进行反射；所述采图单元能够对反射后的所述散射平行光进行采集；所述同轴线扫光源单元和采图单元相对固定设置，所述同轴线扫光源单元和采图单元能够被所述第一驱动单元同步驱动朝向料件移动；还包括调节件。本实用新型至少包括以下优点：便于在狭小约束空间内对大面积物料进行图像信息的获取。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 约束 空间 光学 检测 平台 | ||
【主权项】：
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