[实用新型]一种约束空间下的线扫光学检测平台

权利要求书

1.一种约束空间下的线扫光学检测平台，其特征在于，包括同轴线扫光源单元、平面反光单元、采图单元和第一驱动单元；

所述同轴线扫光源单元和平面反光单元均与料件对应设置且分别位于料件的相对两侧；

所述同轴线扫光源单元发射的光线作用于料件表面后能够产生散射平行光；

所述平面反光单元能够将接收到的所述散射平行光进行反射；

所述采图单元能够对反射后的所述散射平行光进行采集；

其中，所述同轴线扫光源单元和采图单元相对固定设置，所述同轴线扫光源单元和采图单元能够被所述第一驱动单元同步驱动朝向料件移动；

还包括调节件，所述平面反光单元设置在所述调节件上，所述调节件能够带动所述平面反光单元相对料件转动，转动后的所述平面反光单元能够改变所述散射平行光的入射角。

2.如权利要求1所述的约束空间下的线扫光学检测平台，其特征在于，所述平面反光单元包括设置在所述调节件上的平面反光镜，所述平面反光镜能够位于水平面内且在所述调节件的作用下相对水平面转动。

3.如权利要求1所述的约束空间下的线扫光学检测平台，其特征在于，所述第一驱动管单元包括第一伺服电机、沿第一方向朝向料件延伸的滚珠丝杠件，所述滚珠丝杠件至少具有两个安装部，所述采图单元设置在所述安装部上。

4.如权利要求1所述的约束空间下的线扫光学检测平台，其特征在于，包括第二驱动单元，所述第二驱动单元的运动方向与所述第一驱动单元的运动方向相交。

5.如权利要求4所述的约束空间下的线扫光学检测平台，其特征在于，所述第二驱动单元包括第二伺服电机、承载件，所述平面反光单元、采图单元和第一驱动单元均设置在所述承载件上，所述第二伺服电机能够驱动所述承载件沿第二方向移动。

6.如权利要求5所述的约束空间下的线扫光学检测平台，其特征在于，还包括固定机架，所述第二伺服电机固定设置在所述机架上，所述固定机架上还设置有能够与承载件滑动连接的导轨件。

7.如权利要求6所述的约束空间下的线扫光学检测平台，其特征在于，所述固定机架上设置有两个阻挡块，两个所述阻挡块沿第二方向间隔设置且能够分别与所述承载件的相对两个侧壁抵接。