[实用新型]一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置有效
| 申请号： | 202121834737.5 | 申请日： | 2021-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN215732739U | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 吴桂生;杨崇国;龚平均;尹逵;吴炫霆;尹青;龚颖 | 申请（专利权）人： | 陇川县晶准硅业有限责任公司 |
| 主分类号： | H02B1/28 | 分类号： | H02B1/28;H02B1/56;H02B1/30;C01B33/021 |
| 代理公司： | 昆明科阳知识产权代理事务所 53111 | 代理人： | 孙山明 |
| 地址： | 678700 云南省德宏傣族*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及低压补偿配电柜技术领域，具体为一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置，包括低压补偿装置主体，所述低压补偿装置主体的上端安装有保护罩，所述低压补偿装置主体的两侧位置处均设置有进气网，所述低压补偿装置主体的内部下端安装有冰袋存储抽屉，所述保护罩的前侧设置有透窗，所述保护罩的两侧位置处均设置有百叶散热窗，所述低压补偿装置主体的下端设置有橡胶垫，所述低压补偿装置主体的上端设置有支撑架，所述低压补偿装置主体的上侧安装有换热扇。本实用新型用于工业硅冶炼的低压补偿装置，能调节散热效率，本装置的箱体为卡罩结构，且卡罩结构的结构简单，防水性好，并减小了装置的体积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 工业 冶炼 低压 补偿 装置 | ||
【主权项】：
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