[实用新型]一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置

权利要求书

1.一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置，包括低压补偿装置主体（1），其特征在于，所述低压补偿装置主体（1）的上端安装有保护罩（2），所述低压补偿装置主体（1）的两侧位置处均设置有进气网（3），所述低压补偿装置主体（1）的内部下端安装有冰袋存储抽屉（6），所述保护罩（2）的前侧设置有透窗（7），所述保护罩（2）的两侧位置处均设置有百叶散热窗（4），所述低压补偿装置主体（1）的下端设置有橡胶垫（5），所述低压补偿装置主体（1）的上端设置有支撑架（8），所述低压补偿装置主体（1）的上侧安装有换热扇（9），所述支撑架（8）的上侧安装有低压补偿主机（10），所述低压补偿装置主体（1）的内部上端设置有过滤层（11）与吸潮层（12）。

2.根据权利要求1所述的一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置，其特征在于，所述低压补偿装置主体（1）的上侧设置有卡口（13），所述低压补偿装置主体（1）的前后侧临近卡口（13）的位置处均设置有快拆口（15），所述保护罩（2）的下侧安装有卡扣（14）。

3.根据权利要求1所述的一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置，其特征在于，所述低压补偿装置主体（1）通过换热扇（9）与保护罩（2）的内部相贯通，所述低压补偿主机（10）通过支撑架（8）安装于低压补偿装置主体（1）的上方位置处。

4.根据权利要求1所述的一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置，其特征在于，所述保护罩（2）的下端卡合于支撑架（8）的外表面位置处，所述冰袋存储抽屉（6）的内部放置有冰袋。

5.根据权利要求2所述的一种用于工业硅冶炼的低压补偿装置，其特征在于，所述卡扣（14）与卡口（13）的位置相对应，所述卡扣（14）卡合于卡口（13）的内部位置处，所述快拆口（15）的位置与卡扣（14）的下端位置相对应。