[实用新型]吸附工作平台及光刻设备

摘要

本申请涉及一种吸附工作平台，用于光刻设备以吸附工件，光刻设备还包括机架和光学装置，机架可相对吸附工作平台运动，吸附工作平台包括吸气平台及与吸气平台连接的泵体，吸气平台包括具有工作面的吸气平台本体、贯穿吸气平台本体设置且与泵体连通的若干吸气孔、以及用以封堵吸气孔的封堵结构，封堵结构封堵部分吸气孔形成封堵区域，以使得未被封堵的吸气孔在工作面上形成吸附区域，从而在泵体吸气时，整个工作面上的所有吸气孔都能形成负压，实现泵体对被工件的吸附力等于或略小于泵体的吸力，使得工件被紧紧吸附并保持平整，便加工，该结构能够紧紧吸附各种尺寸工件且可将工件放置在工作面的任意区域，提高了吸附工作吸气平台的实用性。