[实用新型]吸附工作平台及光刻设备

说明书

本申请涉及一种吸附工作平台，用于光刻设备以吸附工件，光刻设备还包括机架和光学装置，机架可相对吸附工作平台运动，吸附工作平台包括吸气平台及与吸气平台连接的泵体，吸气平台包括具有工作面的吸气平台本体、贯穿吸气平台本体设置且与泵体连通的若干吸气孔、以及用以封堵吸气孔的封堵结构，封堵结构封堵部分吸气孔形成封堵区域，以使得未被封堵的吸气孔在工作面上形成吸附区域，从而在泵体吸气时，整个工作面上的所有吸气孔都能形成负压，实现泵体对被工件的吸附力等于或略小于泵体的吸力，使得工件被紧紧吸附并保持平整，便加工，该结构能够紧紧吸附各种尺寸工件且可将工件放置在工作面的任意区域，提高了吸附工作吸气平台的实用性。

技术领域

本实用新型涉及一种吸附工作平台及光刻设备。

背景技术

光刻，也就是光学蚀刻，是将光照射在光反应材料上，使光反应材料发生反应，通常是依照特定的图案将光照射在光反应材料上以得到需要的结构。光刻一般也称为曝光，进行光刻的设备即光刻机或曝光机。

常见的被光刻对象为涂覆有光反应材料的网版、干膜或玻璃等。网版是将纱网固定在木框或钢框上，并在纱网上涂上光反应材料，该网版在经过曝光以及后续的处理后，可以用于印刷布匹。干膜是涂有光反应材料的薄膜，通常用于制造PCB板。涂有光反应材料的玻璃通常是用于制备显示屏。

在光刻时，网版一般通过气缸夹紧边框固定在工作平台的台面上，而干膜或玻璃若通过气缸夹紧会被夹翘起或者压碎，目前，一般通过吸气平台进行吸附。但是，当被光刻对象的尺寸相对较小时，被光刻对象无法覆盖工作台面上的所有气孔，则会造成部分气孔一直在进气，无法形成负压或者负压较小，泵体对被光刻对象的吸附力远小于泵体的吸力，被光刻对象无法被紧紧吸附，工作平台的实用性较差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供能够紧紧吸附各种尺寸工件的吸附工作平台。为达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种吸附工作平台，用于光刻设备以吸附工件，所述光刻设备还包括机架和安装在所述机架上的光学装置，所述机架可相对所述吸附工作平台运动，所述吸附工作平台包括吸气平台及与所述吸气平台连接的泵体，所述吸气平台包括具有工作面的吸气平台本体、贯穿所述吸气平台本体设置且与所述泵体连通的若干吸气孔、以及用以封堵所述吸气孔的封堵结构，所述封堵结构封堵部分所述吸气孔形成封堵区域，以使得未被封堵的所述吸气孔在所述工作面上形成吸附区域，从而吸附工件。

进一步地，所述封堵结构包括若干封堵组件，每个所述吸气孔内设置有一个所述封堵组件。

进一步地，于所述吸气平台的高度方向，所述吸气孔设置有第一开口和第二开口，所述第一开口形成在所述工作面上，所述封堵组件包括设置在所述第一开口和所述第二开口之间的封堵件、以及用以将所述封堵件限位在所述第一开口和所述第二开口之间的弹性件。

进一步地，所述封堵件的最大尺寸大于所述第一开口和第二开口的尺寸，所述封堵件和所述第一开口之间具有第一间隙，所述封堵件和所述第二开口之间具有第二间隙。

进一步地，所述泵体吸气工作时，所述封堵区域中的封堵件朝向所述第二开口移动并封堵所述第二开口，所述封堵件和所述第二开口处形成负压；所述吸附区域中的工件封堵所述第一开口，所述工件和所述第一开口处形成负压。

进一步地，所述封堵件为球体。

进一步地，所述封堵组件还包括与所述平台本体连接的支撑件，所述支撑件和所述封堵件相对设置在所述弹性件的两端，所述支撑件上形成有连通所述泵体和所述吸气孔的通道。

进一步地，所述封堵结构包括至少一个吸附垫，所述吸附垫可覆盖在所述工作面上与所述吸气孔之间形成负压，以封堵所述吸气孔。

进一步地，所述吸附垫的材质为玻璃或亚克力。

本实用新型还提供一种光刻设备，包括如上所述的吸附工作平台。