[实用新型]吸附工作平台及光刻设备

权利要求书

1.一种吸附工作平台，用于光刻设备以吸附工件，所述光刻设备还包括机架和安装在所述机架上的光学装置，所述机架可相对所述吸附工作平台运动，其特征在于，所述吸附工作平台包括吸气平台及与所述吸气平台连接的泵体，所述吸气平台包括具有工作面的吸气平台本体、贯穿所述吸气平台本体设置且与所述泵体连通的若干吸气孔、以及用以封堵所述吸气孔的封堵结构，所述封堵结构封堵部分所述吸气孔形成封堵区域，以使得未被封堵的所述吸气孔在所述工作面上形成吸附区域，从而吸附工件。

2.如权利要求1所述的吸附工作平台，其特征在于，所述封堵结构包括若干封堵组件，每个所述吸气孔内设置有一个所述封堵组件。

3.如权利要求2所述的吸附工作平台，其特征在于，于所述吸气平台的高度方向，所述吸气孔设置有第一开口和第二开口，所述第一开口形成在所述工作面上，所述封堵组件包括设置在所述第一开口和所述第二开口之间的封堵件、以及用以将所述封堵件限位在所述第一开口和所述第二开口之间的弹性件。

4.如权利要求3所述的吸附工作平台，其特征在于，所述封堵件的最大尺寸大于所述第一开口和第二开口的尺寸，所述封堵件和所述第一开口之间具有第一间隙，所述封堵件和所述第二开口之间具有第二间隙。

5.如权利要求3所述的吸附工作平台，其特征在于，所述泵体吸气工作时，所述封堵区域中的封堵件朝向所述第二开口移动并封堵所述第二开口，所述封堵件和所述第二开口处形成负压；所述吸附区域中的工件封堵所述第一开口，所述工件和所述第一开口处形成负压。

6.如权利要求3所述的吸附工作平台，其特征在于，所述封堵件为球体。

7.如权利要求3所述的吸附工作平台，其特征在于，所述封堵组件还包括与所述平台本体连接的支撑件，所述支撑件和所述封堵件相对设置在所述弹性件的两端，所述支撑件上形成有连通所述泵体和所述吸气孔的通道。

8.如权利要求1所述的吸附工作平台，其特征在于，所述封堵结构包括至少一个吸附垫，所述吸附垫可覆盖在所述工作面上与所述吸气孔之间形成负压，以封堵所述吸气孔。

9.如权利要求8所述的吸附工作平台，其特征在于，所述吸附垫的材质为玻璃或亚克力。

10.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求1至9项中任一项所述的吸附工作平台。