[实用新型]一种真空镀膜设备

摘要

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种真空镀膜设备，包括控制箱，所述控制箱的底部两侧均固定安装有支架，所述支架的底部固定安装有滚轮，所述控制箱的顶部固定安装有真空舱，所述真空舱的前侧固定安装有舱门，所述控制箱的内顶壁中部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装有丝杠，所述丝杠的外侧固定安装有固定架。该真空镀膜设备，能够直接对基片架进行冷却，便于均匀的对基片架进行散热，散热速度较快，散热效果好，无需将基片架移出真空舱，从而提高了生产效率，能够带动滚轮从控制箱的内部收入或伸出，便于带动真空舱进行移动，降低了搬运时的劳动成本，提高了真空舱的适应性。