[实用新型]一种真空镀膜设备

说明书

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种真空镀膜设备，包括控制箱，所述控制箱的底部两侧均固定安装有支架，所述支架的底部固定安装有滚轮，所述控制箱的顶部固定安装有真空舱，所述真空舱的前侧固定安装有舱门，所述控制箱的内顶壁中部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装有丝杠，所述丝杠的外侧固定安装有固定架。该真空镀膜设备，能够直接对基片架进行冷却，便于均匀的对基片架进行散热，散热速度较快，散热效果好，无需将基片架移出真空舱，从而提高了生产效率，能够带动滚轮从控制箱的内部收入或伸出，便于带动真空舱进行移动，降低了搬运时的劳动成本，提高了真空舱的适应性。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法，例如，真空镀铝、真空镀铬等，真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

目前现有的真空镀膜设备在对工件进行镀膜时，盛放工件的基片架上的温度也会随着升高，因此在完成镀膜后需要对基片架进行冷却，但是现有的真空镀膜设备在对基片架进行冷却时，通常将基片架单独移出冷却或采用真空腔外部的固定结构对基片架进行冷却，这种冷却方式耗时时间较长，冷却效率较低，易对生产效率造成影响，且现有的真空镀膜设备体积较大，质量较重，搬运时较为困难，因此导致镀膜设备的适应性较差。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对上述背景技术中现有技术的不足，本实用新型提供了一种真空镀膜设备，以克服上述背景技术中提出的现有的真空镀膜设备，冷却效率较低和搬运时较为困难的缺点。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种真空镀膜设备，包括控制箱，所述控制箱的底部两侧均固定安装有支架，所述支架的底部固定安装有滚轮，所述控制箱的顶部固定安装有真空舱，所述真空舱的前侧固定安装有舱门；

所述控制箱的内顶壁中部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装有丝杠，所述丝杠的外侧固定安装有固定架，所述固定架的底部两侧均固定安装有固定柱，所述控制箱的内底壁一侧固定安装有冷却箱，所述冷却箱的顶部一侧固定安装有第一连接管，所述控制箱的内底壁另一侧固定安装有回收箱，所述回收箱的顶部一侧固定安装有第二连接管，所述真空舱的内底壁中部固定安装有固定座，所述固定座的顶部固定安装有冷却板，所述冷却板的顶部固定安装有基片架，所述冷却板的内部固定安装有冷却管。

进一步的，所述控制箱的内底壁两侧均固定安装有滑杆，所述滑杆的顶端贯穿固定架并与控制箱的内顶壁相固定。

进一步的，所述丝杠的底端与控制箱的内底壁中部相连接，所述固定架的外侧与控制箱的内壁活动连接。

进一步的，所述冷却箱位于丝杠的一侧设置，所述回收箱位于丝杠的另一侧设置，所述冷却箱与回收箱之间固定安装有循环管。

进一步的，所述第一连接管的顶端贯穿冷却板的底部一侧并与冷却管的一端相固定。

进一步的，所述第二连接管的顶端贯穿冷却板的底部一侧并与冷却管的一端相固定。

进一步的，所述控制箱的底部开设有与滚轮相适配的收纳槽，所述固定柱的底端与支架的顶部相固定，所述冷却管的形状为蛇形。