[实用新型]一种半导体双排真空焊接炉有效

专利信息
申请号: 202121672894.0 申请日: 2021-07-22
公开(公告)号: CN215746941U 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 胡学同;王毅;陈润生;崔润;李海琳;陆叶兴 申请(专利权)人: 泗洪红芯半导体有限公司
主分类号: B23K3/00 分类号: B23K3/00;B23K3/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 223900 江苏省宿迁市泗*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种半导体双排真空焊接炉,包括底座、支撑架、真空炉体、第二固定杆和固定槽,所述底座上固定有支撑架,所述支撑架上安装有真空炉体,所述真空炉体上连接有翻转门,所述翻转门上安装有把手,所述真空炉体上连接有气体管,所述气体管上连接有真空泵箱,所述真空炉体的内部设置有限位块,所述限位块上设置有放置平台,所述放置平台上安装有拉环,且放置平台上开设有滑动槽。该半导体双排真空焊接炉,设置有双排的真空炉体,两个真空炉体均可单独工作,直接提高了该装置可同时焊接半导体的数量,增加了该装置的焊接效率,且在真空炉体内置加热装置,提高加热效率,使放置平台的受热更加均匀,增加焊接效果。
搜索关键词: 一种 半导体 真空 焊接
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泗洪红芯半导体有限公司,未经泗洪红芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202121672894.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top