[实用新型]一种WCVD半导体设备的气体喷淋头有效
| 申请号： | 202121487964.5 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN215612436U | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 陈兆荣 | 申请（专利权）人： | 赛林斯弥（无锡）电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B05B1/30 | 分类号： | B05B1/30 |
| 代理公司： | 湖南楚墨知识产权代理有限公司 43268 | 代理人： | 麦振声 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市锡山区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及气体喷淋头技术领域，具体为一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，包括喷头、第一缓冲腔、限流框和导气管，所述喷头内部的顶端设置有第一缓冲腔，且第一缓冲腔的底端设置有第一气孔，所述喷头顶端的中间位置固定连接有限流框，且限流框的一侧固定设置有第一滑槽，并且限流框顶端的一侧固定设置有第二滑槽。本实用新型通过固定块一侧的电动推杆推动第一滑块，可以使第一滑块在限流框上的第一滑槽内滑动，并带动旋转件在限流框的内部进行旋转，同时旋转件的顶端设置有活动块，通过旋转件旋转，可以使活动块底端的第三滑块在第三滑槽上滑动，并使活动块顶端的第二滑块在第二滑槽上滑动，通过活动块的移动，可以调节输气孔的大小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 wcvd 半导体设备 气体 喷淋 | ||
【主权项】：
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