[实用新型]一种WCVD半导体设备的气体喷淋头有效
| 申请号： | 202121487964.5 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN215612436U | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 陈兆荣 | 申请（专利权）人： | 赛林斯弥（无锡）电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B05B1/30 | 分类号： | B05B1/30 |
| 代理公司： | 湖南楚墨知识产权代理有限公司 43268 | 代理人： | 麦振声 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市锡山区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 wcvd 半导体设备 气体 喷淋 | ||
1.一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，其特征在于：包括喷头(1)、第一缓冲腔(101)、限流框(2)和导气管(7)，所述喷头(1)内部的顶端设置有第一缓冲腔(101)，且第一缓冲腔(101)的底端设置有第一气孔(102)，所述喷头(1)顶端的中间位置固定连接有限流框(2)，且限流框(2)的一侧固定设置有第一滑槽(201)，并且限流框(2)顶端的一侧固定设置有第二滑槽(202)，所述限流框(2)的内部活动连接有旋转件(3)，且旋转件(3)的一侧固定设置有第一滑块(301)，并且第一滑块(301)的外部滑动连接有第一滑槽(201)，所述旋转件(3)的顶端固定设置有第三滑槽(302)。
2.根据权利要求1所述的一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，其特征在于：所述喷头(1)内部的底端设置有第二缓冲腔(103)，且第二缓冲腔(103)的底端设置有第二气孔(104)。
3.根据权利要求1所述的一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，其特征在于：所述限流框(2)的内部滑动连接有活动块(4)，且活动块(4)的顶端固定设置有第二滑块(401)，并且第二滑块(401)的外部滑动连接有第二滑槽(202)。
4.根据权利要求3所述的一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，其特征在于：所述活动块(4)的底端固定连接有第三滑块(402)，且第三滑块(402)的外部滑动连接有第三滑槽(302)。
5.根据权利要求1所述的一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，其特征在于：所述喷头(1)顶端的一侧固定连接有固定块(5)，且固定块(5)的一侧固定安装有电动推杆(501)，并且电动推杆(501)的一侧固定连接有第一滑块(301)。
6.根据权利要求1所述的一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，其特征在于：所述限流框(2)的顶端固定连接有储气腔(6)，且储气腔(6)的顶端固定连接有导气管(7)。
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