[实用新型]一种贴合装置有效
申请号: | 202121381995.2 | 申请日: | 2021-06-21 |
公开(公告)号: | CN215181392U | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 王明波 | 申请(专利权)人: | 广州仕元光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 广州德科知识产权代理有限公司 44381 | 代理人: | 林玉旋 |
地址: | 510419 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及半导体技术领域,公开了一种贴合装置,应用于光罩组件,所述光罩组件包括光罩以及贴合于所述光罩的保护膜和/或金属片,所述贴合装置包括基板以及承载组件,所述基板具有第一表面,所述第一表面设有第一收容槽以及与所述第一收容槽间隔设置的第二收容槽,所述第一收容槽用于放置所述保护膜,所述第二收容槽用于放置所述金属片,所述承载组件可伸缩设于所述第一表面,所述承载组件用于承载所述光罩,以及用于相对所述第一表面伸缩以使所述光罩贴合于所述保护膜和/或所述金属片。采用本实施例的贴合装置,能够兼具贴合保护膜以及贴合金属片两种功能,适用不同使用条件的光罩组件。 | ||
搜索关键词: | 一种 贴合 装置 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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