[实用新型]一种贴合装置有效
申请号: | 202121381995.2 | 申请日: | 2021-06-21 |
公开(公告)号: | CN215181392U | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 王明波 | 申请(专利权)人: | 广州仕元光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 广州德科知识产权代理有限公司 44381 | 代理人: | 林玉旋 |
地址: | 510419 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 贴合 装置 | ||
1.一种贴合装置,其特征在于,应用于光罩组件,所述光罩组件包括光罩以及贴合于所述光罩的保护膜和/或金属片,所述贴合装置包括:
基板,所述基板具有第一表面,所述第一表面设有第一收容槽以及与所述第一收容槽间隔设置的第二收容槽,所述第一收容槽用于放置所述保护膜,所述第二收容槽用于放置所述金属片;以及
承载组件,所述承载组件可伸缩设于所述第一表面,所述承载组件用于承载所述光罩,以及用于相对所述第一表面伸缩以使所述光罩贴合于所述保护膜和/或所述金属片。
2.根据权利要求1所述的贴合装置,其特征在于,所述保护膜包括膜层以及环设于所述膜层一周的框体,所述第一收容槽用于放置所述框体,所述第一收容槽的槽底设有避空槽,所述避空槽用于避空所述膜层。
3.根据权利要求1所述的贴合装置,其特征在于,所述第一收容槽的深度小于或等于所述保护膜的厚度。
4.根据权利要求1至3任一项所述的贴合装置,其特征在于,所述第一表面还设有第一凹槽,所述第一凹槽连通于所述第一收容槽。
5.根据权利要求1至3任一项所述的贴合装置,其特征在于,所述第二收容槽的深度小于或等于所述金属片的厚度。
6.根据权利要求1至3任一项所述的贴合装置,其特征在于,所述光罩组件具有两个所述金属片,所述基板具有两个所述第二收容槽,两个所述第二收容槽间隔设于所述第一表面,一个所述第二收容槽用于放置一个所述金属片。
7.根据权利要求1至3任一项所述的贴合装置,其特征在于,所述第一表面还设有第二凹槽,所述第二凹槽连通于所述第二收容槽。
8.根据权利要求1至3任一项所述的贴合装置,其特征在于,所述贴合装置具有多个所述承载组件,多个所述承载组件间隔位分布于所述第一收容槽的外周,各所述承载组件包括弹性件以及支撑柱,所述弹性件的两端分别连接于所述第一表面和所述支撑柱,所述支撑柱远离所述第一表面的一端用于承载所述光罩。
9.根据权利要求1至3任一项所述的贴合装置,其特征在于,所述贴合装置还包括定位组件,所述定位组件设于所述第一表面,所述定位组件用于定位所述光罩在所述第一表面上的投影位置。
10.根据权利要求9所述的贴合装置,其特征在于,所述光罩具有相邻的第一侧面以及第二侧面,所述定位组件包括至少四个设于所述第一表面的定位柱,至少四个所述定位柱间隔分布于所述第一收容槽的外周,其中至少两个所述定位柱用于抵接于所述第一侧面,剩余至少两个所述定位柱用于抵接于所述第二侧面。
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G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备