[实用新型]一种贴合装置有效
申请号: | 202121381995.2 | 申请日: | 2021-06-21 |
公开(公告)号: | CN215181392U | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 王明波 | 申请(专利权)人: | 广州仕元光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 广州德科知识产权代理有限公司 44381 | 代理人: | 林玉旋 |
地址: | 510419 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 贴合 装置 | ||
本实用新型涉及半导体技术领域,公开了一种贴合装置,应用于光罩组件,所述光罩组件包括光罩以及贴合于所述光罩的保护膜和/或金属片,所述贴合装置包括基板以及承载组件,所述基板具有第一表面,所述第一表面设有第一收容槽以及与所述第一收容槽间隔设置的第二收容槽,所述第一收容槽用于放置所述保护膜,所述第二收容槽用于放置所述金属片,所述承载组件可伸缩设于所述第一表面,所述承载组件用于承载所述光罩,以及用于相对所述第一表面伸缩以使所述光罩贴合于所述保护膜和/或所述金属片。采用本实施例的贴合装置,能够兼具贴合保护膜以及贴合金属片两种功能,适用不同使用条件的光罩组件。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种贴合装置。
背景技术
光刻(Photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模版(又称掩膜版或光罩)上的图形转移到所在衬底上。其中,光罩在用于光刻前,根据使用条件不同,需要进行以下工序中的一项或多项。工序其一为贴合保护膜以对光罩的电路图形进行保护,工序其二为贴合金属片以用于在光刻时提供对位基准。
然而,相关技术中的贴合装置无法兼具贴合保护膜以及贴合金属片两种功能,无法适用不同使用条件的光罩。
实用新型内容
本实用新型实施例公开了一种贴合装置,兼具贴合保护膜以及贴合金属片两种功能,适用不同使用条件的光罩组件。
本实用新型实施例公开了一种贴合装置,应用于光罩组件,所述光罩组件包括光罩以及贴合于所述光罩的保护膜和/或金属片,所述贴合装置包括基板以及承载组件,所述基板具有第一表面,所述第一表面设有第一收容槽以及与所述第一收容槽间隔设置的第二收容槽,所述第一收容槽用于放置所述保护膜,所述第二收容槽用于放置所述金属片,所述承载组件可伸缩设于所述第一表面,所述承载组件用于承载所述光罩,以及用于相对所述第一表面伸缩以使所述光罩贴合于所述保护膜和/或所述金属片。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述保护膜包括膜层以及环设于所述膜层一周的框体,所述第一收容槽用于放置所述框体,所述第一收容槽的槽底设有避空槽,所述避空槽用于避空所述膜层。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述第一收容槽的深度小于或等于所述保护膜的厚度。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述第一表面还设有第一凹槽,所述第一凹槽连通于所述第一收容槽。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述第二收容槽的深度小于或等于所述金属片的厚度。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述光罩组件具有两个所述金属片,所述基板具有两个所述第二收容槽,两个所述第二收容槽间隔设于所述第一表面,一个所述第二收容槽用于放置一个所述金属片。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述贴合装置具有多个所述承载组件,多个所述承载组件间隔分布于所述第一收容槽的外周,各所述承载组件包括弹性件以及支撑柱,所述弹性件的两端分别连接于所述第一表面和所述支撑柱,所述支撑柱远离所述第一表面的一端用于承载所述光罩。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述贴合装置还包括定位组件,所述定位组件设于所述第一表面,所述定位组件用于定位所述光罩在所述第一表面上的投影位置。
作为一种可选的实施方式,在本实用新型实施例中,所述光罩具有相邻的第一侧面以及第二侧面,所述定位组件包括至少四个设于所述第一表面的定位柱,至少四个所述定位柱间隔分布于所述第一收容槽的外周,其中至少两个所述定位柱用于抵接于所述第一侧面,剩余至少两个所述定位柱用于抵接于所述第二侧面。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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