[实用新型]一种出片腔结构及PECVD设备有效
| 申请号： | 202121246273.6 | 申请日： | 2021-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN215050688U | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 左国军;梁建军;候岳明 | 申请（专利权）人： | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/50 |
| 代理公司： | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人： | 林伟敏 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种出片腔结构及PECVD设备，涉及散热装置技术领域。一种出片腔结构具体包括设有容置腔的壳体，所述容置腔内设有至少两个冷却组件，所述冷却组件之间形成适于工件穿过的冷却通道。旨在增大与腔体的换热面积，提高换热速度，同时实现均匀换热。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 出片腔 结构 pecvd 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
