[实用新型]一种出片腔结构及PECVD设备有效
申请号: | 202121246273.6 | 申请日: | 2021-06-04 |
公开(公告)号: | CN215050688U | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 左国军;梁建军;候岳明 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/50 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 林伟敏 |
地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 出片腔 结构 pecvd 设备 | ||
1.一种出片腔结构,包括设有容置腔的壳体,其特征在于,
所述容置腔内设有至少两个冷却组件,所述冷却组件之间形成适于工件穿过的冷却通道。
2.如权利要求1所述的出片腔结构,其特征在于,
两个所述冷却组件均采用第一冷却组件;或
两个所述冷却组件均采用第二冷却组件;或
两个所述冷却组件分别采用第一冷却组件和第二冷却组件。
3.如权利要求2所述的出片腔结构,其特征在于,所述第一冷却组件包括:第一冷却水道,所述第一冷却水道设于所述壳体内部;所述第一冷却水道呈朝向同一方向延伸的“S”形,以平铺在壳体的内部。
4.如权利要求2所述的出片腔结构,其特征在于,所述第二冷却组件包括:水冷板,其表面设有安装槽并凸设于所述容置腔内;
第二冷却水管,设于所述安装槽内且所述第二冷却水管的进水口与出水口均伸出所述壳体外部;以及
固定件,设于所述壳体外侧用于固定所述第二冷却水管的进水口和出水口。
5.如权利要求4所述的出片腔结构,其特征在于,所述安装槽呈“S”形且沿着水冷板的周侧延伸,设置于所述水冷板上表面和/或下表面。
6.如权利要求4所述的出片腔结构,其特征在于,所述固定件包括:
套接于第二冷却水管上并抵接于所述壳体外壁的第一固定部,
套接于第二冷却水管并抵接于所述第一固定部的第二固定部;
以及将所述第一固定部、第二固定部可拆卸连接于所述壳体外壁的连接件。
7.如权利要求6所述的出片腔结构,其特征在于,所述第一固定部与所述壳体外壁之间设有第一密封件,所述第一密封件用于密封第一固定部与所述壳体外壁之间的间隙;
所述第二固定部与所述第一固定部之间设有第二密封件,所述第二密封件用于密封第一固定部与第二冷却水管之间的间隙。
8.如权利要求4所述的出片腔结构,其特征在于,所述第二冷却组件还包括:卡套接头,所述卡套接头套接于第二冷却水管;
卡套本体,套接于所述第二冷却水管的进水口和/或出水口并连接于所述卡套接头;以及
卡环,设于所述卡套接头与所述卡套本体之间,所述卡套本体与所述卡套接头连接时挤压所述卡环,使所述卡环紧密贴合于所述第二冷却水管表面。
9.如权利要求1所述的出片腔结构,其特征在于,还包括吸热膜层,形成于所述冷却组件表面,用于促进冷却组件与被冷却件之间的辐射换热。
10.一种PECVD设备,其特征在于,包括工艺腔和设于所述工艺腔出口处用于对所述工艺腔中加工部件进行降温的如权利要求1至8中任意一项所述的出片腔结构。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的