[实用新型]一种空化器有效
| 申请号： | 202121203390.4 | 申请日： | 2021-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN214810921U | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·郎 | 申请（专利权）人： | 鑫巨（深圳）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/24 | 分类号： | B01J19/24;B01J19/00;B01J4/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 武志峰 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种空化器，设置于蚀刻机的循环系统中，用于保持蚀刻机中的蚀刻剂溶液的浓度，蚀刻机的循环系统包括用于盛放蚀刻剂溶液的容纳池，空化器包括密封连接的混合装置和气泡破裂装置，混合装置连通容纳池的下端，气泡破裂装置连通容纳池的上端，混合装置内设有朝向气泡破裂装置的混合喷嘴，混合装置的外侧设有多个连通混合喷嘴且用于注入气体和蚀刻成分剂的注入接头，气泡破裂装置内设有使气泡发生破裂的挡板组件。本实用新型提供的空化器结构中，通过混合装置和气泡破裂装置可使得注入的气体和蚀刻成分剂充分与蚀刻剂溶液进行化学反应，具有稳定保持蚀刻机中的蚀刻剂溶液的高浓度和混合均匀的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 空化器 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鑫巨（深圳）半导体科技有限公司，未经鑫巨（深圳）半导体科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202121203390.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电子设备盖板及电子设备
- 下一篇：一种裱纸机自动复合装置
