[实用新型]一种镀膜载板有效
申请号: | 202121152629.X | 申请日: | 2021-05-26 |
公开(公告)号: | CN215560655U | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 吴建晓 | 申请(专利权)人: | 安徽华晟新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18 |
代理公司: | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人: | 彭一波 |
地址: | 242074 安徽省宣城市宣城经*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本申请提供了一种镀膜载板,属于光伏电池制备技术领域。该镀膜载板包括载板本体,所述载板本体上设置有至少一个容置槽;紧贴所述容置槽的至少部分侧壁设置有支撑构件用于承载待镀膜件;所述容置槽的底部设有支柱,且所述支柱的高度不大于所述支撑构件的高度。所述支撑构件为设置在所述容置槽的侧壁底部的台阶状构件;置于所述支撑构件上的所述待镀膜件与所述容置槽侧壁之间设有间隙。通过本申请的处理方案,解决硅片在工艺过程中受热形变中心塌陷问题,进而避免绕镀问题以及受热不均匀而产生的色差问题,提升设备利用率,提高产品质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀膜 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的