[实用新型]一种用于无掩膜曝光的照明结构有效

专利信息
申请号: 202120901890.9 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN215297942U 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 桂立 申请(专利权)人: 苏州赛源光学科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 葛燕婷
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种用于无掩膜曝光的照明结构,包括DMD窗口、准直透镜组、汇聚透镜、第一反射镜以及第二反射镜,准直透镜组包括若干在一条直线上依次设置的准直透镜,第一反射镜位于准直透镜组与汇聚透镜之间使经过准直透镜组的光反射至汇聚透镜,第二反射镜位于汇聚透镜与DMD窗口之间使经过汇聚透镜的光反射至DMD窗口的DMD芯片上,本实用新型用于无掩膜曝光的照明结构通过第一反射镜以及第二反射镜折叠光路,使无掩膜曝光的照明结构整体结构紧凑,利于曝光机小型化。
搜索关键词: 一种 用于 无掩膜 曝光 照明 结构
【主权项】:
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