[实用新型]一种用于无掩膜曝光的照明结构

说明书

本实用新型公开了一种用于无掩膜曝光的照明结构，包括DMD窗口、准直透镜组、汇聚透镜、第一反射镜以及第二反射镜，准直透镜组包括若干在一条直线上依次设置的准直透镜，第一反射镜位于准直透镜组与汇聚透镜之间使经过准直透镜组的光反射至汇聚透镜，第二反射镜位于汇聚透镜与DMD窗口之间使经过汇聚透镜的光反射至DMD窗口的DMD芯片上，本实用新型用于无掩膜曝光的照明结构通过第一反射镜以及第二反射镜折叠光路，使无掩膜曝光的照明结构整体结构紧凑，利于曝光机小型化。

技术领域

本实用新型涉及光学镜头，尤其是涉及一种微纳光刻用无掩膜曝光的照明结构。

背景技术

在微电子、光学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩膜式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩膜的曝光形式。而目前现有无掩膜曝光机采用的是光源、光源准直系统、DMD芯片以及投影模组的结构。但现有的照明结构整体体积大，不利于曝光机的小型化。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的之一在于提供一种结构紧凑，利于曝光机小型化的无掩膜曝光的照明结构。

本实用新型的目的之一采用以下技术方案实现：

一种用于无掩膜曝光的照明结构，包括DMD窗口、准直透镜组、汇聚透镜、第一反射镜以及第二反射镜，所述准直透镜组包括若干在一条直线上依次设置的准直透镜，所述第一反射镜位于所述准直透镜组与所述汇聚透镜之间使经过所述准直透镜组的光反射至所述汇聚透镜，所述第二反射镜位于所述汇聚透镜与所述DMD窗口之间使经过所述汇聚透镜的光反射至所述DMD窗口的DMD芯片上。

进一步地，所述第一反射镜及所述第二反射镜之间的连线与所述准直透镜组所在的直线垂直。

进一步地，若干所述准直透镜依次为第一准直透镜，所述第一准直透镜为凹凸透镜；第二准直透镜，所述第二准直透镜为双凸透镜；第三准直透镜，所述第三准直透镜为双凸透镜；第四准直透镜，所述第四准直透镜为平凸透镜。

进一步地，所述第一准直透镜靠近物面为凹面，靠近像面为凸面，凹面的曲率半径大于凸面的曲率半径。

进一步地，所述第二准直透镜靠近物面的曲率半径大于靠近像面的曲率半径。

进一步地，所述第三准直透镜靠近物面为凸面，靠近像面为凹面，凸面的曲率半径大于凹面的曲率半径。

进一步地，所述第四准直透镜靠近物面为平面，靠近像面为凸面。

进一步地，所述汇聚透镜靠近物面的曲率半径与靠近像面的曲率半径相等。

进一步地，所述用于无掩膜曝光的照明结构还包括镜头窗口，所述镜头窗口位于所述DMD窗口与所述第二反射镜之间。

进一步地，所述用于无掩膜曝光的照明结构还包括匀光棒，所述匀光棒位于所述准直透镜组一侧，所述匀光棒的出光作为所述准直透镜组的光源。

相比现有技术，本实用新型用于无掩膜曝光的照明结构通过第一反射镜以及第二反射镜折叠光路，使无掩膜曝光的照明结构整体结构紧凑，利于曝光机小型化。

附图说明

图1为本实用新型用于无掩膜曝光的照明结构的结构图；

图2为图1的用于无掩膜曝光的照明结构的光路图。

图中：10、DMD窗口；20、镜头窗口；60、准直透镜组；61、第一准直透镜；62、第二准直透镜；63、第三准直透镜；64、第四准直透镜；70、汇聚透镜；80、第一反射镜；90、第二反射镜；100、匀光棒。

具体实施方式