[实用新型]一种用于无掩膜曝光的照明结构有效

专利信息
申请号: 202120901890.9 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN215297942U 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 桂立 申请(专利权)人: 苏州赛源光学科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 葛燕婷
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 无掩膜 曝光 照明 结构
【权利要求书】:

1.一种用于无掩膜曝光的照明结构,包括DMD窗口、准直透镜组以及汇聚透镜,其特征在于:所述无掩膜曝光的照明结构还包括第一反射镜以及第二反射镜,所述准直透镜组包括若干在一条直线上依次设置的准直透镜,所述第一反射镜位于所述准直透镜组与所述汇聚透镜之间使经过所述准直透镜组的光反射至所述汇聚透镜,所述第二反射镜位于所述汇聚透镜与所述DMD窗口之间使经过所述汇聚透镜的光反射至所述DMD窗口的DMD芯片上。

2.根据权利要求1所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述第一反射镜及所述第二反射镜之间的连线与所述准直透镜组所在的直线垂直。

3.根据权利要求1所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:若干所述准直透镜依次为第一准直透镜,所述第一准直透镜为凹凸透镜;第二准直透镜,所述第二准直透镜为双凸透镜;第三准直透镜,所述第三准直透镜为双凸透镜;第四准直透镜,所述第四准直透镜为平凸透镜。

4.根据权利要求3所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述第一准直透镜靠近物面为凹面,靠近像面为凸面,凹面的曲率半径大于凸面的曲率半径。

5.根据权利要求3所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述第二准直透镜靠近物面的曲率半径大于靠近像面的曲率半径。

6.根据权利要求3所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述第三准直透镜靠近物面为凸面,靠近像面为凹面,凸面的曲率半径大于凹面的曲率半径。

7.根据权利要求3所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述第四准直透镜靠近物面为平面,靠近像面为凸面。

8.根据权利要求3所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述汇聚透镜靠近物面的曲率半径与靠近像面的曲率半径相等。

9.根据权利要求1所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述用于无掩膜曝光的照明结构还包括镜头窗口,所述镜头窗口位于所述DMD窗口与所述第二反射镜之间。

10.根据权利要求1所述的用于无掩膜曝光的照明结构,其特征在于:所述用于无掩膜曝光的照明结构还包括匀光棒,所述匀光棒位于所述准直透镜组一侧,所述匀光棒的出光作为所述准直透镜组的光源。

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