[实用新型]一种半导体免切的清洁膜有效
申请号: | 202120700361.2 | 申请日: | 2021-04-07 |
公开(公告)号: | CN215512550U | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 闫奋娥 | 申请(专利权)人: | 昆山倬跃蓝天电子科技有限公司 |
主分类号: | B32B3/30 | 分类号: | B32B3/30;B32B33/00;B32B27/36;B32B7/12;B32B9/00;B32B9/04;H01L21/683 |
代理公司: | 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 | 代理人: | 张玉梅 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种半导体免切的清洁膜,包括清洁层,清洁层两侧设置有保护层,保护层两侧设置有胶黏层,胶黏层两侧设置有散热层,散热层两侧设置防磨层,防磨层两侧设置有连接层,本实用新型适用于半导体的清洁膜,通过设置清洁层、散热层及防磨层,能够在实现对半导体清洁的同时,能够实现膜的自清洁作用,同时能够增加散热,防止半导体过热影响使用,同时耐磨层能够增加耐磨性,提高清洁膜使用时间,连接层采用拉伸性能较好的聚对苯二甲酸材质,易于撕拉,同时在连接层上设置与清洁膜同方向的压纹,通过在压纹上设置三角口和断点,使清洁膜易于撕开,避免刀切的过程,减少工艺步骤,提高使用效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 清洁 | ||
【主权项】:
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