[实用新型]一种半导体免切的清洁膜有效
| 申请号： | 202120700361.2 | 申请日： | 2021-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN215512550U | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 闫奋娥 | 申请（专利权）人： | 昆山倬跃蓝天电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B3/30 | 分类号： | B32B3/30;B32B33/00;B32B27/36;B32B7/12;B32B9/00;B32B9/04;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 | 代理人： | 张玉梅 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 清洁 | ||
【权利要求书】：
1.一种半导体免切的清洁膜，包括清洁层(1)，其特征在于：所述清洁层(1)两侧设置有保护层(2)，所述保护层(2)两侧设置有胶黏层(3)，所述胶黏层(3)两侧设置有散热层(4)，所述散热层(4)两侧设置防磨层(5)，所述防磨层(5)两侧设置有连接层(7)。
2.如权利要求1所述的一种半导体免切的清洁膜，其特征在于：所述保护层(2)与清洁层(1)接触面上均匀设置有凸起(6)。
3.如权利要求1所述的一种半导体免切的清洁膜，其特征在于：所述清洁层(1)的材质为纳米级二氧化钛。
4.如权利要求1所述的一种半导体免切的清洁膜，其特征在于：所述连接层(7)采用聚对苯二甲酸材质。
5.如权利要求1所述的一种半导体免切的清洁膜，其特征在于：所述连接层(7)上间断设置有压纹(9)，所述压纹(9)中轴线两端设置有三角口(8)。
6.如权利要求1所述的一种半导体免切的清洁膜，其特征在于：所述压纹(9)上均匀设置有矩形断点(10)，所述断点(10)中轴线与所述三角口(8)中轴线齐平。
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