[实用新型]一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体有效
| 申请号： | 202120696552.6 | 申请日： | 2021-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN215007542U | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 吴莹;易伟;杨静;沈震宇;李书良;邱绍宇;魏梦玲;高岩 | 申请（专利权）人： | 中国核动力研究设计院 |
| 主分类号： | G21F1/10 | 分类号： | G21F1/10;G21F3/00 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 唐邦英 |
| 地址： | 610000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体，解决了现有的屏蔽体拼接结构会增加屏蔽板材的加工成本，或使拼接处部分减少屏蔽厚度，降低屏蔽效果，组合拼接屏蔽体结构稳定性差的技术问题。本实用新型的屏蔽粘接层包括粘接层和屏蔽层，所述屏蔽层与所述粘接层连接，所述粘接层连接相邻的屏蔽体。本实用新型的拼接屏蔽体，包括屏蔽粘接层和至少两个屏蔽体，所述屏蔽粘接层连接相邻的屏蔽体。本实用新型具有粘结强度高，拼接稳固，屏蔽效果好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 屏蔽 粘接层 及其 拼接 | ||
【主权项】：
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