[实用新型]一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体有效
| 申请号： | 202120696552.6 | 申请日： | 2021-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN215007542U | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 吴莹;易伟;杨静;沈震宇;李书良;邱绍宇;魏梦玲;高岩 | 申请（专利权）人： | 中国核动力研究设计院 |
| 主分类号： | G21F1/10 | 分类号： | G21F1/10;G21F3/00 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 唐邦英 |
| 地址： | 610000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 屏蔽 粘接层 及其 拼接 | ||
【权利要求书】：
1.一种屏蔽粘接层，其特征在于，屏蔽粘接层(4)包括粘接层(1)和屏蔽层(2)，所述屏蔽层(2)与所述粘接层(1)连接，所述粘接层(1)连接相邻的屏蔽体(3)；所述屏蔽层(2)不连续分散于所述粘接层(1)中。
2.根据权利要求1所述的一种屏蔽粘接层，其特征在于，所述屏蔽层(2)呈连续结构，所述屏蔽层(2)连接在两个粘接层(1)之间。
3.根据权利要求1所述的一种屏蔽粘接层，其特征在于，所述屏蔽层(2)为铅聚乙烯层、硼聚乙烯层或铅硼聚乙烯层。
4.一种拼接屏蔽体，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的屏蔽粘接层(4)。
5.根据权利要求4所述的一种拼接屏蔽体，其特征在于，包括至少两个屏蔽体(3)，所述屏蔽粘接层(4)连接相邻的屏蔽体(3)。
6.根据权利要求4所述的一种拼接屏蔽体，其特征在于，所述屏蔽粘接层(4)呈一字型连接相邻的屏蔽体(3)。
7.根据权利要求4所述的一种拼接屏蔽体，其特征在于，所述屏蔽体(3)的拼接端呈斜线形，所述屏蔽粘接层(4)呈斜线型连接相邻的屏蔽体(3)。
8.根据权利要求4所述的一种拼接屏蔽体，其特征在于，所述屏蔽体(3)的拼接端呈锯齿形，所述屏蔽粘接层(4)呈锯齿型连接相邻的屏蔽体(3)。
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