[实用新型]一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体有效

专利信息
申请号: 202120696552.6 申请日: 2021-04-06
公开(公告)号: CN215007542U 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 吴莹;易伟;杨静;沈震宇;李书良;邱绍宇;魏梦玲;高岩 申请(专利权)人: 中国核动力研究设计院
主分类号: G21F1/10 分类号: G21F1/10;G21F3/00
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 唐邦英
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 屏蔽 粘接层 及其 拼接
【说明书】:

实用新型公开了一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体,解决了现有的屏蔽体拼接结构会增加屏蔽板材的加工成本,或使拼接处部分减少屏蔽厚度,降低屏蔽效果,组合拼接屏蔽体结构稳定性差的技术问题。本实用新型的屏蔽粘接层包括粘接层和屏蔽层,所述屏蔽层与所述粘接层连接,所述粘接层连接相邻的屏蔽体。本实用新型的拼接屏蔽体,包括屏蔽粘接层和至少两个屏蔽体,所述屏蔽粘接层连接相邻的屏蔽体。本实用新型具有粘结强度高,拼接稳固,屏蔽效果好等优点。

技术领域

本实用新型涉及核辐射防护技术领域,具体涉及一种屏蔽粘接层及其拼接屏蔽体。

背景技术

铅硼聚乙烯或含硼聚乙烯等屏蔽材料受限于加工尺寸,在使用中通常会存在拼接的情况。

现有拼接方式有Z字型搭接、弧面搭接和直口错边搭接等方式,这些方式会增加屏蔽板材的加工成本,或使拼接处部分减少屏蔽厚度,降低屏蔽效果,组合拼接屏蔽体结构稳定性差。

因此,有必要对屏蔽体的粘接结构进行改进。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是:现有的屏蔽体拼接结构会增加屏蔽板材的加工成本,或使拼接处部分减少屏蔽厚度,降低屏蔽效果,组合拼接屏蔽体结构稳定性差。

本实用新型通过下述技术方案实现:

一种屏蔽粘接层,屏蔽粘接层包括粘接层和屏蔽层,所述屏蔽层与所述粘接层连接,所述粘接层连接相邻的屏蔽体。

本实用新型在粘接层中设置屏蔽层,提高了屏蔽体拼接处的屏蔽效果,使屏蔽体拼接无缝隙,结构一体化也可增加结构稳定性。

本实用新型优选一种屏蔽粘接层,所述屏蔽层不连续分散于所述粘接层中。

本实用新型优选一种屏蔽粘接层,所述屏蔽层呈连续结构,所述屏蔽层连接在两个粘接层之间。

本实用新型设置多种结构,屏蔽层可不连续分散在粘接层中,也可呈连续呈状的形式分布于粘接层之间,可根据具体情况进行调整,适用性广。

本实用新型优选一种屏蔽粘接层,所述屏蔽粘接层为屏蔽填料和环氧树脂的复合层。

环氧树脂的粘接性能好,屏蔽填料更很好地分散在其中起到拼接处的屏蔽作用。

本实用新型优选一种屏蔽粘接层,所述屏蔽层为铅聚乙烯层、硼聚乙烯层或铅硼聚乙烯层,可保证拼接部位屏蔽效果不降低。

一种拼接屏蔽体,包括屏蔽粘接层。

本实用新型优选一种拼接屏蔽体,包括至少两个屏蔽体,所述屏蔽粘接层连接相邻的屏蔽体。

本实用新型优选一种拼接屏蔽体,所述屏蔽粘接层呈一字型连接相邻的屏蔽体。

本实用新型优选一种拼接屏蔽体,所述屏蔽体的拼接端呈斜线形,所述屏蔽粘接层呈斜线型连接相邻的屏蔽体。

本实用新型由于屏蔽粘接层自带的屏蔽功能,使屏蔽体拼接无缝隙,结构一体化也可增加结构稳定性,部分使用场景去掉包壳后也可保证屏蔽效果和安全性。

本实用新型优选一种拼接屏蔽体,所述屏蔽体的拼接端三角形,所述屏蔽粘接层呈三角型连接相邻的屏蔽体。

三角形连接,有利于增加相邻屏蔽体拼接处的接触面积,增大结合力,更好地保证连接稳固性。

本实用新型具有如下的优点和有益效果:

1、本实用新型的屏蔽粘接层采用多层结构,屏蔽层可连续和不连续分布于粘接层中,可根据具体使用和要求实现不同形式的粘接层和粘接效果。

2、本实用新型采用含屏蔽层的环氧树脂层进行填缝粘结,粘结强度与板材本身强度近似,固化后进行屏蔽效果检测,缝隙处未出现热点,屏蔽效果好。

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