[实用新型]晶圆电极的清洁装置有效

专利信息
申请号: 202120671706.6 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN213349940U 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 施杰;孙闻彤 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司;台积电(中国)有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/14;B08B3/08;B08B5/02;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 娜拉
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本申请提供了一种晶圆电极的清洁装置,包括汇流壳体、盖合罩以及流体输送组件。汇流壳体为中空结构,包括有支撑台、汇流腔和排出口,汇流腔位于支撑台与排出口之间,汇流腔由支撑台至排出口的方向呈渐缩趋势。盖合罩为中空结构,包括有进口、扩散腔和连接部,盖合罩通过连接部连接于支撑台,扩散腔位于进口与连接部之间,扩散腔由进口至连接部的方向呈逐渐增大的趋势。流体输送组件经由盖合罩向汇流壳体供应清洁介质,流体输送组件与进口连接设置,清洁介质经由扩散腔膨化喷淋至支撑台上待清洁的晶圆电极。本申请的清洁装置替代了传统人工清洁方法,在节约人力的同时保证了清洁效果。
搜索关键词: 电极 清洁 装置
【主权项】:
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