[实用新型]晶圆电极的清洁装置有效
| 申请号: | 202120671706.6 | 申请日: | 2021-04-01 |
| 公开(公告)号: | CN213349940U | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
| 发明(设计)人: | 施杰;孙闻彤 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司;台积电(中国)有限公司 |
| 主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/14;B08B3/08;B08B5/02;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本申请提供了一种晶圆电极的清洁装置,包括汇流壳体、盖合罩以及流体输送组件。汇流壳体为中空结构,包括有支撑台、汇流腔和排出口,汇流腔位于支撑台与排出口之间,汇流腔由支撑台至排出口的方向呈渐缩趋势。盖合罩为中空结构,包括有进口、扩散腔和连接部,盖合罩通过连接部连接于支撑台,扩散腔位于进口与连接部之间,扩散腔由进口至连接部的方向呈逐渐增大的趋势。流体输送组件经由盖合罩向汇流壳体供应清洁介质,流体输送组件与进口连接设置,清洁介质经由扩散腔膨化喷淋至支撑台上待清洁的晶圆电极。本申请的清洁装置替代了传统人工清洁方法,在节约人力的同时保证了清洁效果。 | ||
| 搜索关键词: | 电极 清洁 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司;台积电(中国)有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司;台积电(中国)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202120671706.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:微波辐射计的散热系统
- 下一篇:一种多级喷淋式气液反应器





