[实用新型]晶圆电极的清洁装置

权利要求书

1.一种晶圆电极的清洁装置，其特征在于，包括：

汇流壳体，中空结构，所述汇流壳体包括支撑台、汇流腔和排出口，所述汇流腔位于所述支撑台与所述排出口之间，所述汇流腔由所述支撑台至所述排出口的方向呈渐缩趋势；

盖合罩，中空结构，所述盖合罩包括进口、扩散腔和连接部，所述盖合罩通过所述连接部连接于所述支撑台，所述扩散腔位于所述进口与所述连接部之间，所述扩散腔由所述进口至所述连接部的方向呈逐渐增大的趋势；

流体输送组件，经由所述盖合罩向所述汇流壳体供应清洁介质，所述流体输送组件与所述进口连接设置，所述清洁介质经由所述扩散腔膨化喷淋至所述支撑台上待清洁的晶圆电极。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述支撑台设置于所述汇流腔内壁上并向所述汇流腔中心位置方向延伸，所述支撑台与所述晶圆电极的接触面为第一表面，所述支撑台在所述第一表面的正投影为环形结构。

3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，沿所述进口至所述排出口的方向，所述汇流腔的最大截面尺寸小于所述扩散腔的最大截面尺寸，所述支撑台设置于所述汇流腔外壁上并沿背离所述汇流腔的方向延伸。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，还包括支撑件，所述支撑件设置于所述汇流腔外侧，并与所述支撑台固定连接。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述排出口尺寸大于所述进口尺寸，以使所述清洁介质在所述排出口的流速不小于所述清洁介质在所述进口处的流速。

6.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述扩散腔为锥体结构，所述进口的中心线与所述扩散腔的轴线重合，以使所述清洁介质均匀喷淋在所述晶圆电极表面。

7.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述连接部与所述支撑台连接处设置有密封圈。

8.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述流体输送组件包括流体驱动件、第一管道和第二管道，所述第一管道一端与所述流体驱动件相连，另一端与所述进口连通，所述第二管道与所述排出口连通，所述清洁介质通过所述流体驱动件及第一管道进入至所述扩散腔，并通过所述汇流腔及所述第二管道输送至外界。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述第一管道设置有过滤器，用于分离所述清洁介质内的杂质。

10.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述第一管道设置有控制阀，用于控制所述清洁介质的流量。