[实用新型]干蚀刻机

摘要

本实用新型提供了一种干蚀刻机，其包括：反应腔、上电极、下电极和多块导流板。下电极的上表面承载用于接受蚀刻气体蚀刻的基板。下电极的每个侧面设有至少一块导流板。每块导流板在下电极的对应侧面上沿着靠近或远离上电极的方向独立移动，使得下电极的同一侧面或者不同侧面上的导流板具有高度差。该高度差能够协调从位于下电极上表面的基板的不同位置逸出的气体的速率，减缓从基板薄区域逸出气体的速率或者增加从基板厚区域逸出气体的速率，从而使基板的厚区域和薄区域的气流速率大致一样，有利于保证蚀刻过程的均一性。