[实用新型]干蚀刻机

权利要求书

1.一种干蚀刻机，其特征在于，包括：

反应腔，供蚀刻气体对基板进行干蚀刻反应；

上电极，设于所述反应腔内部的上方空间；

下电极，设于所述反应腔内部的下方空间并与所述上电极相对设置，其上表面承载用于接受所述蚀刻气体蚀刻的所述基板；以及

多块导流板，可移动地设于所述下电极的一个或多个对应侧面，每块所述导流板在所述下电极的对应侧面上沿着靠近或远离所述上电极的方向独立移动。

2.如权利要求1所述的干蚀刻机，其特征在于，所述干蚀刻机包括：

多根支撑柱，每根支撑柱支撑与其对应设置的导流板并与该导流板的底部固定连接；以及

多个升降机构，每个所述升降机构独立控制与其对应设置的支撑柱的升降；

其中，所述反应腔的底部设有用于供所述支撑柱贯穿的第一通孔，所述支撑柱与所述第一通孔可移动地密封连接。

3.如权利要求2所述的干蚀刻机，其特征在于，所述升降机构为步进电机或气缸。

4.如权利要求2所述的干蚀刻机，其特征在于，所述支撑柱与所述反应腔的底部通过波纹管连接；和/或，所述支撑柱与所述导流板的底部通过螺丝连接。

5.如权利要求2所述的干蚀刻机，其特征在于，所述干蚀刻机包括：输入装置，与所述多个升降机构通信连接，用于将用户输入的指令信息转换为控制信号；

其中，每个所述升降机构根据所述控制信号独立控制与其对应设置的所述支撑柱的升降。

6.如权利要求1所述的干蚀刻机，其特征在于，所述干蚀刻机包括：多条可锁止滑轨；所述可锁止滑轨设于所述下电极的对应侧面上并且其长轴方向与所述下电极的上表面具有夹角，所述导流板与所述下电极的对应侧面通过所述可锁止滑轨相连接。

7.如权利要求1所述的干蚀刻机，其特征在于，所述下电极的每个侧面上设有1至5块所述导流板。

8.如权利要求1至7任意一项所述的干蚀刻机，其特征在于，所述导流板上开设有多个第二通孔。

9.如权利要求8所述的干蚀刻机，其特征在于，所述多块导流板的开孔率一致；和/或，所述第二通孔的尺寸一致。

10.如权利要求1至7任意一项所述的干蚀刻机，其特征在于，所述下电极的上表面上设有一圈屏蔽环，供所述基板的边缘置于该屏蔽环上。