[实用新型]遮挡装置及具有遮挡装置的基板处理腔室有效
| 申请号： | 202120515649.2 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN215976007U | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 林俊成;郭大豪;郑啓鸿;沈祐德 | 申请（专利权）人： | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种遮挡装置及具有遮挡装置的基板处理腔室，主要包括一反应腔体、一承载盘、一收纳腔体及一遮挡装置，其中反应腔体连接收纳腔体，而承载盘位于反应腔体内。遮挡装置包括至少一驱动杆体、至少一底座及一遮挡部，其中驱动杆体由收纳腔体延伸至反应腔体。底座连接遮挡部及驱动杆体，其中驱动杆体通过底座带动遮挡部在收纳腔体及反应腔体之间位移。在进行沉积制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至收纳腔体内。在进行清洁制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至反应腔体内，以避免在清洁处理腔室的过程中污染承载盘。 | ||
| 搜索关键词： | 遮挡 装置 具有 处理 | ||
【主权项】：
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