[实用新型]遮挡装置及具有遮挡装置的基板处理腔室

权利要求书

1.一种基板处理腔室，其特征在于，包括：

一反应腔体，包括一容置空间；

一挡件，位于该反应腔体的该容置空间内，其中该挡件的一端连接该反应腔体，而另一端则形成一开口；

一承载盘，位于该容置空间内，并用以承载至少一基板；

一收纳腔体，连接该反应腔体，其中该收纳腔体包括一收纳空间，流体连接该容置空间；及

一遮挡装置，包括：

至少一驱动杆体，由该收纳空间延伸至该容置空间；

至少一底座，连接该驱动杆体；及

一遮挡部，连接该底座，其中该驱动杆体透过该底座带动该遮挡部在该收纳空间及该容置空间之间位移，且该遮挡部的位移方向与该驱动杆体平行。

2.根据权利要求1所述的基板处理腔室，其特征在于，包括一驱动单元及一磁流体轴封，该驱动杆体则透过该磁流体轴封设置在该收纳腔体或该反应腔体，而该驱动单元连接该驱动杆体，并带动该驱动杆体转动，以驱动连接该驱动杆体的该底座沿着该驱动杆体位移，其中该驱动杆体为一螺杆，而该底座则包括一螺孔或一螺纹，该底座透过该螺孔或该螺纹连接该螺杆。

3.根据权利要求1所述的基板处理腔室，其特征在于，包括至少一位置感测单元设置于该收纳腔体或该反应腔体，并用以感测该遮挡部的位置。

4.根据权利要求1所述的基板处理腔室，其特征在于，包括一靶材设置在该容置空间内并面对该承载盘，位移至该容置空间的该遮挡部位于该靶材及该承载盘之间。

5.根据权利要求1所述的基板处理腔室，其特征在于，包括至少一衬套位于该容置空间及该收纳空间，并包括一隔离空间，而该驱动杆体及该底座位于该衬套的该隔离空间内。

6.根据权利要求5所述的基板处理腔室，其特征在于，其中该衬套由一导电材质所制成，并电性连接一偏压单元。

7.根据权利要求5所述的基板处理腔室，其特征在于，包括一抽气单元流体连接该衬套的该隔离空间，并用以抽出该隔离空间内的气体。

8.一种遮挡装置，适用于一基板处理腔室，其特征在于，包括：

至少一驱动杆体；

一驱动单元，连接该驱动杆体；

至少一底座，连接该驱动杆体；及

一遮挡部，连接该底座，其中该驱动单元用以带动该驱动杆体转动，以带动该底座及该遮挡部沿着该驱动杆体位移，且该遮挡部的位移方向与该驱动杆体平行。

9.根据权利要求8所述的遮挡装置，其特征在于，包括至少一衬套包括一隔离空间，而该驱动杆体及该底座位于该衬套的该隔离空间，其中该衬套由一导电材质所制成，并电性连接一偏压单元。

10.根据权利要求9所述的遮挡装置，其特征在于，包括一抽气管线流体连接该衬套的该隔离空间，并用以抽出该隔离空间内的气体。