[实用新型]一种磁控溅射设备观察辅助机构有效

专利信息
申请号: 202120445060.X 申请日: 2021-03-02
公开(公告)号: CN214529221U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 王康 申请(专利权)人: 菏泽学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/52
代理公司: 济南格源知识产权代理有限公司 37306 代理人: 刘晓政
地址: 274015 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及一种磁控溅射设备观察辅助机构,包括设置在磁控溅射设备外壁的观察窗,在观察窗的一侧设置用于盖住观察窗的挡板,所述挡板设置在磁控溅射设备外壁的内侧,有驱动挡板转动的转杆,转杆穿过磁控溅射设备外壁,在转杆上设置圆形限位板,圆形限位板设置在磁控溅射设备外壁的外侧,在磁控溅射设备外壁的外侧设置有可拆卸的固定块,转杆穿过所述固定块,且在固定块靠近磁控溅射设备外壁的一侧设置有与圆形限位板匹配的第一凹槽,在固定块远离磁控溅射设备外壁的一侧设置用于放置转杆密封套的第二凹槽,转杆密封套套装在转杆上。本方案解决了观察窗容易污染无法清晰观察喷涂效果的问题,并且可以对观察窗起到保护的作用。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 设备 观察 辅助 机构
【主权项】:
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