[实用新型]一种磁控溅射设备观察辅助机构有效
| 申请号: | 202120445060.X | 申请日: | 2021-03-02 |
| 公开(公告)号: | CN214529221U | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
| 发明(设计)人: | 王康 | 申请(专利权)人: | 菏泽学院 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/52 |
| 代理公司: | 济南格源知识产权代理有限公司 37306 | 代理人: | 刘晓政 |
| 地址: | 274015 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 磁控溅射 设备 观察 辅助 机构 | ||
本实用新型涉及一种磁控溅射设备观察辅助机构,包括设置在磁控溅射设备外壁的观察窗,在观察窗的一侧设置用于盖住观察窗的挡板,所述挡板设置在磁控溅射设备外壁的内侧,有驱动挡板转动的转杆,转杆穿过磁控溅射设备外壁,在转杆上设置圆形限位板,圆形限位板设置在磁控溅射设备外壁的外侧,在磁控溅射设备外壁的外侧设置有可拆卸的固定块,转杆穿过所述固定块,且在固定块靠近磁控溅射设备外壁的一侧设置有与圆形限位板匹配的第一凹槽,在固定块远离磁控溅射设备外壁的一侧设置用于放置转杆密封套的第二凹槽,转杆密封套套装在转杆上。本方案解决了观察窗容易污染无法清晰观察喷涂效果的问题,并且可以对观察窗起到保护的作用。
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备领域,尤其是一种磁控溅射设备观察辅助机构。
背景技术
真空镀膜设备主要指在较高真空度下进行镀膜所采用的设备,具体包括很多种类,以磁控溅射居多,利用电子、离子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
由于在磁控溅射镀膜时,部分电子、离子及原子在真空状态下在腔室中自由游走,会对磁控溅射设备的观察窗产生污染,不能清楚的观察喷涂效果,需要经常擦拭,甚至更换观察窗玻璃,影响设备的使用。
实用新型内容
本实用新型针对上述不足,提供了一种磁控溅射设备观察辅助机构的方案,解决了观察窗容易污染无法清晰观察喷涂效果的问题,并且可以对观察窗起到保护的作用。
本实用新型提供如下技术方案:一种磁控溅射设备观察辅助机构,包括设置在磁控溅射设备外壁的观察窗,在观察窗的一侧设置用于盖住观察窗的挡板,所述挡板设置在磁控溅射设备外壁的内侧,有驱动挡板转动的转杆,转杆穿过磁控溅射设备外壁,在转杆上设置圆形限位板,圆形限位板设置在磁控溅射设备外壁的外侧,在磁控溅射设备外壁的外侧设置有可拆卸的固定块,转杆穿过所述固定块,且在固定块靠近磁控溅射设备外壁的一侧设置有与圆形限位板匹配的第一凹槽,在固定块远离磁控溅射设备外壁的一侧设置用于放置转杆密封套的第二凹槽,转杆密封套套装在转杆上。挡板在磁控溅射的时候对观察窗起到遮挡作用,避免观察窗被污染;有转杆可以带动挡板转动,需要观察溅射情况时,转动转杆使挡板处于不遮挡观察窗的位置即可通过观察窗观察溅射情况;圆形限位板和固定块配合,能对转杆进行限位,避免转杆上下位移,转杆密封套可以起到密封作用。
在磁控溅射设备外壁的内侧设置用于容纳挡板转动的第三凹槽,这样便于挡板的转动,不会影响磁控溅射设备内的其他设备。
在磁控溅射设备外壁的外侧设置有圆形的卡槽,固定块上设置有与卡槽匹配的凸起,卡槽和凸起匹配,既起到密封作用,也避免固定块与磁控溅射设备外壁发生相对移动。
固定块为圆柱形,转杆设置在圆柱形固定块的轴心线上,圆形卡槽的直径大于的圆形限位板的直径,这样不会影响圆形限位板的转动,且圆形卡槽和凸起之间还可以设置密封垫,进一步增强密封性。
在转杆密封套外设置有防止转杆密封套脱落的护套,护套套在固定块外部,所述护套中部设置有用于转杆通过的通孔,在护套内设置有弧形的夹紧板,夹紧板上设置穿过护套的推进杆,推进杆与护套通过螺纹连接,护套可以防止转杆密封套脱落,通过转动推进杆可以推动夹紧板夹紧固定块,避免护套脱落。
在转杆远离挡板的一端设置可拆卸的旋转把手,这样有利于转动转杆,旋转把手可以通过插接或者螺纹等方式与转杆连接。
通过上述描述可以看出,本方案的机构通过转杆带动挡板转动,实现对观察窗的遮挡或者打开,观察时转动挡板即可,不观察时,挡板可以挡住观察窗,避免观察窗受到污染;其中还有固定块、护套、圆形限位板等结构,可以对转杆起到固定作用。
附图说明
图1为本实用新型具体实施方式的结构示意图。
图2为磁控溅射设备外壁的局部示意图。
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