[实用新型]一种磁控溅射设备观察辅助机构有效

专利信息
申请号: 202120445060.X 申请日: 2021-03-02
公开(公告)号: CN214529221U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 王康 申请(专利权)人: 菏泽学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/52
代理公司: 济南格源知识产权代理有限公司 37306 代理人: 刘晓政
地址: 274015 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁控溅射 设备 观察 辅助 机构
【权利要求书】:

1.一种磁控溅射设备观察辅助机构,包括设置在磁控溅射设备外壁(2)的观察窗(1),其特征是:在观察窗(1)的一侧设置用于盖住观察窗的挡板(3),所述挡板(3)设置在磁控溅射设备外壁(2)的内侧,有驱动挡板(3)转动的转杆(4),转杆(4)穿过磁控溅射设备外壁(2),在转杆(4)上设置圆形限位板(5),圆形限位板(5)设置在磁控溅射设备外壁(2)的外侧,在磁控溅射设备外壁(2)的外侧设置有可拆卸的固定块(6),转杆(4)穿过所述固定块(6),且在固定块(6)靠近磁控溅射设备外壁(2)的一侧设置有与圆形限位板(5)匹配的第一凹槽,在固定块(6)远离磁控溅射设备外壁(2)的一侧设置用于放置转杆密封套(7)的第二凹槽,转杆密封套(7)套装在转杆(4)上;

在转杆密封套(7)外设置有防止转杆密封套(7)脱落的护套(10),护套(10)套在固定块(6)外部,所述护套(10)中部设置有用于转杆(4)通过的通孔,在护套(10)内设置有弧形的夹紧板(12),夹紧板(12)上设置穿过护套(10)的推进杆(11),推进杆(11)与护套(10)螺纹连接。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备观察辅助机构,其特征是:

在磁控溅射设备外壁(2)的内侧设置用于容纳挡板(3)转动的第三凹槽(8)。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射设备观察辅助机构,其特征是:

在磁控溅射设备外壁(2)的外侧设置有圆形的卡槽(15),固定块(6)上设置有与卡槽(15)匹配的凸起(9)。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射设备观察辅助机构,其特征是:

所述固定块(6)为圆柱形,转杆(4)设置在圆柱形的固定块(6)的轴心线上,且圆形的卡槽(15)的直径大于圆形限位板(5)的直径。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射设备观察辅助机构,其特征是:

在转杆(4)远离挡板(3)的一端设置可拆卸的旋转把手(13)。

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