[实用新型]一体式真空镀膜设备有效
| 申请号： | 202120372209.6 | 申请日： | 2021-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN215628259U | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 刘杰;来华杭;施成亮;俞峰;周海龙 | 申请（专利权）人： | 浙江上方电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337 | 代理人： | 沈自军 |
| 地址： | 312366 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一体式真空镀膜设备，包括工艺室、所述工艺室的侧壁开设有室门，在室门部位通过铰链安装有翻转式的门板，所述门板具有朝向所述工艺室的内侧以及背向所述工艺室的外侧，所述门板的内侧安装有用以实施磁控溅射的阴极模组；所述门板上设有过气口，所述门板的外侧设有处在所述过气口外围的法兰连接座，在所述法兰连接座上安装有分子泵，所述分子泵的吸气端与所述过气口相互连通。本申请的一体式真空镀膜设备具有合理的空间布局，有效增加阴极模组的安装位以及保证镀膜均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 体式 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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