[实用新型]一体式真空镀膜设备

权利要求书

1.一体式真空镀膜设备，包括工艺室、所述工艺室的侧壁开设有室门，在室门部位通过铰链安装有翻转式的门板，所述门板具有朝向所述工艺室的内侧以及背向所述工艺室的外侧，其特征在于，所述门板的内侧安装有用以实施磁控溅射的阴极模组；

所述门板上设有过气口，所述门板的外侧设有处在所述过气口外围的法兰连接座，在所述法兰连接座上安装有分子泵，所述分子泵的吸气端与所述过气口相互连通。

2.根据权利要求1所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，所述门板包括主板以及处在主板外周的侧缘，所述主板相对于工艺室的侧壁外凸，并在所述门板的内侧形成扩展区，所述阴极模组位于所述扩展区，所述法兰连接座固定与所述主板的外侧。

3.根据权利要求1所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，主板外侧在高度方向上分上部、中部和下部三个区域，所述分子泵安装在主板外侧的中部区域。

4.根据权利要求1所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，所述室门并排布置有多个，各室门的门板上安装有至少两台分子泵。

5.根据权利要求1所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，同一板上的各分子泵的出气端相互并联地接入一真空总管。

6.根据权利要求1所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，同一门板上的各分子泵沿门板高度方向依次布置。

7.根据权利要求2所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，所述阴极模组中的靶材为立置的筒状且相对于所在的门板转动安装，在所述主板的外侧安装有与所述靶材联动的驱动电机。

8.根据权利要求7所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，所述驱动电机安装在主板外侧的下部区域。

9.根据权利要求1所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，同一门板上的驱动电机沿门板宽度方向依次布置。

10.根据权利要求1所述的一体式真空镀膜设备，其特征在于，在门板宽度方向上，所述阴极模组的两侧均配置有工艺气体输入口。