[实用新型]一体式真空镀膜设备

说明书

本申请提供了一体式真空镀膜设备，包括工艺室、所述工艺室的侧壁开设有室门，在室门部位通过铰链安装有翻转式的门板，所述门板具有朝向所述工艺室的内侧以及背向所述工艺室的外侧，所述门板的内侧安装有用以实施磁控溅射的阴极模组；所述门板上设有过气口，所述门板的外侧设有处在所述过气口外围的法兰连接座，在所述法兰连接座上安装有分子泵，所述分子泵的吸气端与所述过气口相互连通。本申请的一体式真空镀膜设备具有合理的空间布局，有效增加阴极模组的安装位以及保证镀膜均匀性。

技术领域

本申请涉及真空镀膜技术领域，特别是涉及一体式真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜设备在密封状态时，通过分子泵的抽空系统抽空，腔体内的真空度可达1.0E-5Pa。这时再通过气体质量流量控制器等设备控制工艺气体进入真空腔体内，进行真空压力的调节，使真空度在1.0E-1Pa至1Pa这个良好的镀膜真空度区间内。

分子泵与溅射用阴极是真空镀膜设备满足真空溅射镀膜工艺条件的关键设备。现有真空镀膜设备布局：阴极模组是独立安装在阴极安装法兰上面，工艺气路组件安装在阴极附近，上面不会再安装其他设备；分子泵在安装在阴极左右两侧的分子泵安装法兰上面，从而实现工艺气路里面通出来的气氛经过阴极靶面后再由旁边的分子泵抽走，该布局具有相对气氛干扰较小，而且可安装多个分子泵以实现镀膜的均匀性控制，镀膜均匀性高。但是分子泵会占用阴极模组安装位置，设计腔体时需考虑分子泵安装位，整个真空镀膜设备的设计加工成本很高。

实用新型内容

针对现有技术问题，本申请提供了一体式真空镀膜设备集分子泵与阴极背向安装于同一门板上，有效增加阴极模组的安装位或减少镀膜设备的长度；且设有合理布局的气路保证镀膜的均匀性，提升整个设备的空间利用率。

本申请的一体式真空镀膜设备，包括工艺室、所述工艺室的侧壁开设有室门，在室门部位通过铰链安装有翻转式的门板，所述门板具有朝向所述工艺室的内侧以及背向所述工艺室的外侧，所述门板的内侧安装有用以实施磁控溅射的阴极模组；

所述门板上设有过气口，所述门板的外侧设有处在所述过气口外围的法兰连接座，在所述法兰连接座上安装有分子泵，所述分子泵的吸气端与所述过气口相互连通。

以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。

可选的，所述门板包括主板以及处在主板外周的侧缘，所述主板相对于工艺室的侧壁外凸，并在所述门板的内侧形成扩展区，所述阴极模组位于所述扩展区，所述法兰连接座固定与所述主板的外侧。

可选的，主板外侧在高度方向上分上部、中部和下部三个区域，所述分子泵安装在主板外侧的中部区域。

可选的，所述室门并排布置有多个，各室门的门板上安装有至少两台分子泵。

可选的，同一板上的各分子泵的出气端相互并联地接入一真空总管。

可选的，同一门板上的各分子泵沿门板高度方向依次布置。

可选的，所述阴极模组中的靶材为立置的筒状且相对于所在的门板转动安装，在所述主板的外侧安装有与所述靶材联动的驱动电机。

可选的，所述驱动电机安装在主板外侧的下部区域。

可选的，同一门板上的驱动电机沿门板宽度方向依次布置。

可选的，在门板宽度方向上，所述阴极模组的两侧均配置有工艺气体输入口。

相比于现有技术，本申请的一体式真空镀膜设备合理布局分子泵与阴极模组的安装位置，有效降低分子泵占用的工艺室空间；合理调整工艺气路以适用于新的安装布局，保证镀膜的均匀性。

附图说明