[实用新型]掩模对准系统及光刻设备有效
| 申请号： | 202120367151.6 | 申请日： | 2021-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN214122685U | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 李志丹;孙俊阳;覃宗伟 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种掩模对准系统及光刻设备，包括：光源，用于发射曝光光束；遮光板，位于所述光源下方；掩模版，位于所述遮光板下方，其上设有若干对准标记；同轴对准运动机构，与所述遮光板及若干同轴对准镜头连接，用于驱动所述遮光板及所述同轴对准镜头同步运动至曝光工位或对准工位；以及，在曝光工位时，所述遮光板的遮光区遮挡所述对准标记；在对准工位时，所述同轴对准镜头对准对应的所述对准标记。本实用新型以避免曝光时产生的杂散光在基底或基准板上形成不必要的图形。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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