[实用新型]掩模对准系统及光刻设备

权利要求书

1.一种掩模对准系统，其特征在于，包括：

光源，用于发射曝光光束；

遮光板，位于所述光源下方；

掩模版，位于所述遮光板下方，其上设有若干对准标记；

同轴对准运动机构，与所述遮光板及若干同轴对准镜头连接，用于驱动所述遮光板及所述同轴对准镜头同步运动至曝光工位或对准工位；以及，

在曝光工位时，所述遮光板的遮光区遮挡所述对准标记；在对准工位时，所述同轴对准镜头对准对应的所述对准标记。

2.如权利要求1所述的掩模对准系统，其特征在于，所述掩模版上设有曝光区，所述遮光板的透光区包括第一透光子区域及若干第二透光子区域，所述第一透光子区域与所述曝光区对应，一个所述第二透光子区域与一个所述对准标记对应，所有所述第二透光子区域均位于所述第一透光子区域的同侧。

3.如权利要求2所述的掩模对准系统，其特征在于，所述同轴对准镜头位于对应的所述第二透光子区域上，且所述同轴对准镜头发射的光束穿过所述第二透光子区域。

4.如权利要求3所述的掩模对准系统，其特征在于，所述第二透光子区域的数量、所述对准标记的数量及所述同轴对准镜头的数量均至少为2个。

5.如权利要求1所述的掩模对准系统，其特征在于，所述掩模版上设有曝光区，所述遮光板的透光区包括第一透光子区域，所述同轴对准镜头发射的光束位于所述遮光板之外的区域。

6.如权利要求2-5中任一项所述的掩模对准系统，其特征在于，所述曝光区的透光率小于或等于1％。

7.如权利要求1所述的掩模对准系统，其特征在于，所述遮光板通过不透光的连接件与所述同轴对准运动机构连接。

8.如权利要求7所述的掩模对准系统，其特征在于，所述连接件的形状为L形。

9.如权利要求1所述的掩模对准系统，其特征在于，还包括中继镜组，所述中继镜组位于所述光源和所述遮光板之间。

10.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的掩模对准系统。