[实用新型]一种陶瓷基板清洗用放置治具有效
申请号: | 202120347235.3 | 申请日: | 2021-02-07 |
公开(公告)号: | CN214123849U | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 韩威风;韩巍巍;管文杰 | 申请(专利权)人: | 浙江美迪凯光学半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人: | 张德宝 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及基板清洗用具技术领域,尤其涉及一种陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,包括治具本体,所述治具本体上表面开设有若干基板放置位,所述基板放置位的周边设有定位挡框,所述基板放置位上开设有若干导流槽,所述导流槽的端部均向所述治具本体外部相连通。在治具本体上开设的若干基板放置位和定位挡框,能够同时对多个基板进行固定,防止其左右移动或与其他基板聚集;基板放置位底部开设的导流槽,能够使I PA(异丙醇)等洗涤液体从基板底部流动,进而确保玻璃与基板之间冲洗掉的石蜡全部带出,使清洗效果更佳。 | ||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 清洗 放置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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