[实用新型]一种陶瓷基板清洗用放置治具有效
申请号: | 202120347235.3 | 申请日: | 2021-02-07 |
公开(公告)号: | CN214123849U | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 韩威风;韩巍巍;管文杰 | 申请(专利权)人: | 浙江美迪凯光学半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人: | 张德宝 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 清洗 放置 | ||
1.一种陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,包括治具本体(1),所述治具本体(1)上表面开设有若干基板放置位(2),所述基板放置位(2)的周边设有定位挡框(3),所述基板放置位(2)上开设有若干导流槽(4),所述导流槽(4)的端部均向所述治具本体(1)外部相连通。
2.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述基板放置位(2)在所述治具本体(1)上呈网格状布设,所述治具本体(1)外围边缘处及各相邻所述基板放置位(2)之间均设有围设有定位挡框(3)。
3.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述基板放置位(2)呈圆形、矩形或者其它与所述陶瓷基板相匹配的形状。
4.根据权利要求3所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,围设于矩形基板放置位(2)周边的所述定位挡框(3)的转角处呈倒圆角(5)设置。
5.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述导流槽(4)在所述治具本体(1)上纵横交错设置,并在长度和/或宽度方向上贯穿整个治具本体(1)。
6.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述导流槽(4)的深度≥0.5mm,导流槽(4)宽度≥1mm。
7.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)的上表面为铁氟龙材质。
8.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)为铁氟龙材质。
9.根据权利要求8所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)的下表面上设有一层铝合金板(6)。
10.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)上开设有若干固定孔(7)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造