[实用新型]一种陶瓷基板清洗用放置治具有效

专利信息
申请号: 202120347235.3 申请日: 2021-02-07
公开(公告)号: CN214123849U 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 韩威风;韩巍巍;管文杰 申请(专利权)人: 浙江美迪凯光学半导体有限公司
主分类号: H01L21/673 分类号: H01L21/673
代理公司: 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 代理人: 张德宝
地址: 314400 浙江省嘉兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 清洗 放置
【权利要求书】:

1.一种陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,包括治具本体(1),所述治具本体(1)上表面开设有若干基板放置位(2),所述基板放置位(2)的周边设有定位挡框(3),所述基板放置位(2)上开设有若干导流槽(4),所述导流槽(4)的端部均向所述治具本体(1)外部相连通。

2.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述基板放置位(2)在所述治具本体(1)上呈网格状布设,所述治具本体(1)外围边缘处及各相邻所述基板放置位(2)之间均设有围设有定位挡框(3)。

3.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述基板放置位(2)呈圆形、矩形或者其它与所述陶瓷基板相匹配的形状。

4.根据权利要求3所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,围设于矩形基板放置位(2)周边的所述定位挡框(3)的转角处呈倒圆角(5)设置。

5.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述导流槽(4)在所述治具本体(1)上纵横交错设置,并在长度和/或宽度方向上贯穿整个治具本体(1)。

6.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述导流槽(4)的深度≥0.5mm,导流槽(4)宽度≥1mm。

7.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)的上表面为铁氟龙材质。

8.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)为铁氟龙材质。

9.根据权利要求8所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)的下表面上设有一层铝合金板(6)。

10.根据权利要求1所述的陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,所述治具本体(1)上开设有若干固定孔(7)。

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